【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及聚电解质复合物及其组合物，用于在治疗或预防龋齿、早期侵蚀性损伤和牙釉质脱矿化，以及促进牙釉质修复和再矿化中使用。该口腔护理组合物包含含有阳离子聚合物和阴离子羧化物的聚电解质复合物。
技术介绍
1、牙菌斑是通常存在于牙齿之间、沿着牙龈线和在牙龈线边缘之下的细菌黏性生物膜或细菌群。牙菌斑可能引起龋齿和牙周问题，例如牙龈炎和牙周炎。龋齿蛀牙或牙齿脱矿化由可发酵糖的细菌降解产生的酸引起。
2、牙釉质是哺乳动物牙齿的最外层，并且是人体中矿化度最高的组织。其由超过95重量％的矿物质以及少于5重量％的水和有机物质组成。主要矿物质为紧密堆积并组织成错综复杂的交织结构的细长的(碳化的)羟基磷灰石晶体。高矿物质含量连同其有组织的结构为牙釉质提供了显著的弹性，其保护牙齿免受日常使用，例如咀嚼、咬、咬碎和磨碎。虽然牙釉质是牙齿的坚硬保护物，但其可能被外部的化学和物理损害破坏。与可以通过身体修复的骨折不同，成熟的牙釉质是无生命的组织，并且在大量矿物质丢失之后不能自身再生，矿物质丢失通常以龋齿或侵蚀发生。
3、牙釉质侵蚀是最常...
【技术保护点】
1.一种聚电解质复合物，包含阳离子聚合物以及阴离子聚合物或阴离子羧化物。
2.根据权利要求1所述的复合物，其中所述聚电解质复合物包含选自聚酰胺型胺树状聚合物(PAMAM)和聚乙烯亚胺(PEI)的阳离子聚合物。
3.根据权利要求1所述的复合物，其中所述聚电解质复合物包含阳离子聚合物，所述阳离子聚合物为包含一个或更多个碱性氨基酸残基(例如，赖氨酸、精氨酸和/或组氨酸)的聚氨基酸。
4.根据权利要求3所述的复合物，其中所述聚氨基酸为由碱性氨基酸残基(例如，赖氨酸、精氨酸和/或组氨酸)组成的均聚物。
5.根据权利要求3所述的复合...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种聚电解质复合物，包含阳离子聚合物以及阴离子聚合物或阴离子羧化物。
2.根据权利要求1所述的复合物，其中所述聚电解质复合物包含选自聚酰胺型胺树状聚合物(pamam)和聚乙烯亚胺(pei)的阳离子聚合物。
3.根据权利要求1所述的复合物，其中所述聚电解质复合物包含阳离子聚合物，所述阳离子聚合物为包含一个或更多个碱性氨基酸残基(例如，赖氨酸、精氨酸和/或组氨酸)的聚氨基酸。
4.根据权利要求3所述的复合物，其中所述聚氨基酸为由碱性氨基酸残基(例如，赖氨酸、精氨酸和/或组氨酸)组成的均聚物。
5.根据权利要求3所述的复合物，其中所述聚氨基酸为聚赖氨酸均聚物。
6.根据权利要求5所述的复合物，其中所述聚赖氨酸均聚物由d-赖氨酸残基(dll)或l-赖氨酸残基(pdl)组成。
7.根据权利要求3所述的复合物，其中所述聚赖氨酸均聚物为ε-聚赖氨酸，任选地由d-赖氨酸残基或l-赖氨酸残基组成。
8.根据权利要求3所述的复合物，其中所述聚赖氨酸均聚物选自：具有150,000da至300,000da的分子量、和/或700至1500个d-赖氨酸残基的α-聚-d-赖氨酸，任选地作为氢溴酸盐；具有30,000da至60,000da的分子量、和/或30至60个l-赖氨酸残基的α-聚-l-赖氨酸，任选地作为盐酸盐；以及具有3000至5000的分子量、和/或25至35个l-赖氨酸残基的ε-聚-l-赖氨酸(epl)，任选地呈游离碱的形式。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的复合物，其中所述阴离子羧化物为有机单羧酸、二羧酸或三羧酸。
10.根据权利要求9所述的复合物，其中所述阴离子羧化物为苹果酸。
11.一种口腔护理组合物，包含聚电解质复合物，所述聚电解质复合物包含阳离子聚合物以及阴离子聚合物或阴离子羧化物。
12.根据权利要求11所述的组合物，其中所述聚电解质复合物包含选自聚-d-赖氨酸、聚-l-赖氨酸和ε-聚-l-赖氨酸的...
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