【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于涂覆单个基板或基板组的内联系统，该系统具有多个腔室(即进料室、等待室、至少一个处理室、另一个等待室和排出室)，这些腔室一个接一个地布置并且可通过泵排空，基板或基板组依次通过这些腔室，并且每个腔室可通过阀门关闭。本专利技术还涉及一种在这种内联涂覆系统中涂覆单个基板或基板组的方法。
技术介绍
1、例如，使用工件涂层来提高部件的耐磨性和使用寿命。在许多情况下，工具涂层还可以起到防腐或改善物理性能的作用。本文提到的工艺是化学气相沉积(cvd)或物理气相沉积(pvd)，与cvd相比，pvd具有显著降低沉积温度的优点。除了在所谓的批处理系统中的批处理过程(其中在涂覆过程中将大量工件布置在涂覆容器中的固定位置)之外，涂覆也应用于连续过程，在连续过程中基板在连续系统中一个接一个地通过各个工位。这些工位通过内联系统的不同腔室实现，在这些腔室中产生cvd或pvd工艺所需的真空，工件表面被蚀刻以及可能涂覆两层(一层接一层地施加)。在非常薄的层的情况下(例如光学涂层或电池和燃料电池的涂层)，排空和通风时间成为确定系统生产率的速度决定步骤。例如，表面蚀刻和涂覆每个都需要大约1分钟，但是，每个机器人可以在不到1分钟的时间内完成装载和卸载。由于技术限制，在如此短的时间内无法进行进料或排出过程。这些过程在技术上可行的限度大约在2分钟左右。
2、在图1中，示出了现有技术中已知的由五个腔室组成的系统的示意图，该系统包括装载区域、进料室、蚀刻室、两个连续的涂覆室、排出室和卸载区域。上述各室均配有泵并与阀门相连，以便根据需要对这些室进
3、在图1中，示出了五种不同装载状态的示意图，它们由线编号1、2、3、4和5表示。工件具有参考数字11、12、13、14和15。涂覆室被构造成使得工件11至15中的每一个都可以被容纳。工件15位于所谓的装载区域中，在该装载区域中工件14被临时存储在进料室中，直到达到所需的真空压力。同时，在蚀刻室中蚀刻工件13，在第一涂覆室中为工件12提供第一涂层，以及在第二涂覆室中为工件11提供第二涂层(作为第一涂层的外层)。
4、具体地，系统每次排气和通风时间均为2分钟。在第二步骤(第二行)中，打开相应的阀门后，将工件11、12、13、14分别推入下一个腔室，即工件14进入蚀刻室，工件13进入第一涂覆室，工件12进入第二涂覆室，工件11进入排出室。此传输的结束显示在第三行中。然后打开进料室以引入工件15，同时通风之后将工件11从排出室移除(在第四行示出)。
5、一旦工件15被定位在进料室中并且工件11从排出室输送到卸载区域，进料室和排出室的阀门就再次关闭，之后进料室被排空。同时，完成位于相应腔室中的相应工件的第一涂层和第二涂层的表面蚀刻。在也带有“数字1”的最后一行中，表示出准备的另一个工件16。
6、上述吞吐量处理具有由2分钟的排空时间指定的循环时间。
技术实现思路
1、本专利技术的任务是以实现更高生产率的方式改进上述类型的内联系统或上述类型的方法。
2、该任务通过根据权利要求1的内联系统或根据权利要求5的方法来解决。
3、根据本专利技术，进料室和排出室均被扩大，以使得它们具有用于同时容纳n个基板或基板组(一个接一个的布置或并排排列)的吞吐量长度，其中n是自然数。布置在进料室和处理室之间的等待室以及布置在排出室和处理室之间的等待室具有容纳(n-1)个基板或基板组的容量，但是，处理室的容量被限制为每个容纳一个基板。优选地，进料室和排出室的长度是处理室(即用于蚀刻和涂覆的相等长度的腔室)的长度的n倍，而等待室的长度是处理室的长度的n-1倍。这确保了在排气室中同时为n个基板或基板组产生过程所需的真空。因此，最耗时的排气和通风过程“分布”在n个基板或n个基板组上，以使得两个外部腔室最耗时的步骤(用于通风和排气)只需在每n个循环中进行一次，并且其他腔室的循环时间(该循环时间要短得多)可以保持。尽管两个外部腔室(即进料室和排出室)的扩大和相应等待室的插入导致系统成本的增加，但这被系统生产率的n倍增加所抵消。在任何情况下，额外的系统成本都显著低于为实现相同的循环比安装多条生产线。
4、优选地，内联系统具有作为第一处理室的蚀刻室和至少一个涂覆室，优选地具有用于沉积连续层的两个涂覆室。根据本专利技术的另一个实施例，涂覆室具有pvd设备。
5、在工艺技术方面，任务的解决在于，在相应的蚀刻和/或涂覆处理之间，基板或基板组以组合形式从进料室经由等待室移动到处理室中，并通过另一等待室进入排出室中，并且以这样的方式进行处理：在连续步骤中，进料室被n个基板或n个基板组占用，并且每个处理室在每种情况下仅被一个基板或一个基板组占用，等待室不被基板或基板组占用。在接下来的下一个步骤中，基板或基板组以组合形式向前移动，以使得在完成该步骤之后，从每个处理室排出的基板或基板组被向前输送的基板或基板组代替，并且在等待室被部分占用之后，进料室被n个基板或基板组占用，之后依次重复上述基板移动和腔室占用的顺序。
6、本专利技术的核心思想是，在每种情况下，进料室和排出室的最大占用率都大于整数因子n。
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1.一种用于涂覆单个基板或基板组的内联系统，该内联系统具有多个腔室，所述多个腔室一个接一个地布置并可通过泵排空，所述多个腔室依次包括进料室、等待室、至少一个处理室、另一个等待室和排出室，所述基板或基板组依次通过所述多个腔室，并且每个腔室可以通过阀门关闭，其特征在于，所述进料室和所述排出室各自具有用于同时容纳一个接一个布置或相邻布置的n个基板或基板组的容量，其中n是大于1的自然数，以及，布置在所述进料室和所述处理室之间的所述等待室和布置在所述排出室和所述处理室之间的所述等待室具有用于容纳(n-1)个基板或基板组的容量，但是，所述处理室的容量在每种情况下都被限制为容纳一个基板或一个基板组。
2.根据权利要求1所述的内联系统，其特征在于，所述进料室和所述排出室的长度是每个处理室的长度的n倍。
3.根据权利要求1或2所述的内联系统，其特征在于，设置蚀刻室和一个涂覆室作为处理室，优选地，设置蚀刻室和两个涂覆室作为处理室。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的内联系统，其特征在于，所述涂覆室具有PVD设备。
5.一种在根据权利要求1至4中任一项
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，在涂覆之前对所述基板或基板组进行蚀刻处理。
7.根据权利要求5或6所述的方法，其特征在于，所述基板被涂覆两层。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种用于涂覆单个基板或基板组的内联系统，该内联系统具有多个腔室，所述多个腔室一个接一个地布置并可通过泵排空，所述多个腔室依次包括进料室、等待室、至少一个处理室、另一个等待室和排出室，所述基板或基板组依次通过所述多个腔室，并且每个腔室可以通过阀门关闭，其特征在于，所述进料室和所述排出室各自具有用于同时容纳一个接一个布置或相邻布置的n个基板或基板组的容量，其中n是大于1的自然数，以及，布置在所述进料室和所述处理室之间的所述等待室和布置在所述排出室和所述处理室之间的所述等待室具有用于容纳(n-1)个基板或基板组的容量，但是，所述处理室的容量在每种情况下都被限制为容纳一个基板或一个基板组。
2.根据权...
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