用于涂覆单个基板或基板组的内联系统以及在内联涂覆系统中涂覆单个基板或基板组的方法技术方案

技术编号:42360409 阅读:17 留言:0更新日期:2024-08-16 14:44
本发明专利技术涉及一种用于涂覆单个基板或基板组的内联系统,该系统具有多个腔室,这些腔室一个接一个地布置并且可通过泵排空,这些腔室依次包括进料室、等待室、至少一个处理室、另一个等待室和排料室,基板或基板组依次通过这些腔室,并且每个腔室可通过阀门关闭。根据本发明专利技术,进料室和排出室各自具有同时容纳多个,即n个基板或基板组的容量,以及等待室具有允许容纳(n‑1)个基板或基板组的容量,其中处理室的容纳容量在每种情况下被限制为一个基板或一个基板组。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及一种用于涂覆单个基板或基板组的内联系统,该系统具有多个腔室(即进料室、等待室、至少一个处理室、另一个等待室和排出室),这些腔室一个接一个地布置并且可通过泵排空,基板或基板组依次通过这些腔室,并且每个腔室可通过阀门关闭。本专利技术还涉及一种在这种内联涂覆系统中涂覆单个基板或基板组的方法。


技术介绍

1、例如,使用工件涂层来提高部件的耐磨性和使用寿命。在许多情况下,工具涂层还可以起到防腐或改善物理性能的作用。本文提到的工艺是化学气相沉积(cvd)或物理气相沉积(pvd),与cvd相比,pvd具有显著降低沉积温度的优点。除了在所谓的批处理系统中的批处理过程(其中在涂覆过程中将大量工件布置在涂覆容器中的固定位置)之外,涂覆也应用于连续过程,在连续过程中基板在连续系统中一个接一个地通过各个工位。这些工位通过内联系统的不同腔室实现,在这些腔室中产生cvd或pvd工艺所需的真空,工件表面被蚀刻以及可能涂覆两层(一层接一层地施加)。在非常薄的层的情况下(例如光学涂层或电池和燃料电池的涂层),排空和通风时间成为确定系统生产率的速度决定步骤。例如,表面蚀刻和涂覆本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于涂覆单个基板或基板组的内联系统,该内联系统具有多个腔室,所述多个腔室一个接一个地布置并可通过泵排空,所述多个腔室依次包括进料室、等待室、至少一个处理室、另一个等待室和排出室,所述基板或基板组依次通过所述多个腔室,并且每个腔室可以通过阀门关闭,其特征在于,所述进料室和所述排出室各自具有用于同时容纳一个接一个布置或相邻布置的n个基板或基板组的容量,其中n是大于1的自然数,以及,布置在所述进料室和所述处理室之间的所述等待室和布置在所述排出室和所述处理室之间的所述等待室具有用于容纳(n-1)个基板或基板组的容量,但是,所述处理室的容量在每种情况下都被限制为容纳一个基板或一个基板组。<...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种用于涂覆单个基板或基板组的内联系统,该内联系统具有多个腔室,所述多个腔室一个接一个地布置并可通过泵排空,所述多个腔室依次包括进料室、等待室、至少一个处理室、另一个等待室和排出室,所述基板或基板组依次通过所述多个腔室,并且每个腔室可以通过阀门关闭,其特征在于,所述进料室和所述排出室各自具有用于同时容纳一个接一个布置或相邻布置的n个基板或基板组的容量,其中n是大于1的自然数,以及,布置在所述进料室和所述处理室之间的所述等待室和布置在所述排出室和所述处理室之间的所述等待室具有用于容纳(n-1)个基板或基板组的容量,但是,所述处理室的容量在每种情况下都被限制为容纳一个基板或一个基板组。

2.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员:雷纳·克雷默
申请(专利权)人:雷纳·克雷默
类型:发明
国别省市:

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