用于清洁表面的装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于清洁光学表面(10)的装置(5)，光学表面具有由中间区(200)分开的第一光学关注区域(100A)和第二光学关注区域(100B)。在本发明专利技术中，至少一个波换能器(70，70A，70B)在声学上耦合到光学表面(10)，以产生(i)朝向第一光学关注区域(100A)传播并传播到第一光学关注区域中以及(ii)朝向第二光学关注区域(100B)传播并传播到第二光学关注区域中的波。根据本发明专利技术，清洁装置(5)包括单个波换能器(70，70A，70B)，该单个波换能器同时产生朝向两个光学关注区域(100A，100B)并进入这两个光学关注区域中的波，或者清洁装置(5)包括至少两个波换能器(70，70A，70B)，每个波换能器产生朝向单个光学关注区域(100A，100B)传播并传播到单个光学关注区域中的波。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

技术介绍

技术实现思路

【技术保护点】

1.一种用于清洁光学表面(10)的装置(5)，所述光学表面具有至少一个第一光学关注区域(100A)和一个第二光学关注区域(100B)，所述清洁装置(5)包括至少一个波换能器(70，70A，70B)，所述至少一个波换能器被设计成在声学上耦合到所述光学表面(10)，

2.如权利要求1所述的清洁装置(5)，其中，所述至少一个波换能器(70，70A，70B)恰好包括一个波换能器(70)，所述波换能器(70)被配置成产生沿所述第一光学关注区域(100A)的方向传播的第一波(WL1)以及沿所述第二关注光学区域(100B)的方向传播的第二波(WL2)。

3.如权利要求1所述的清...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种用于清洁光学表面(10)的装置(5)，所述光学表面具有至少一个第一光学关注区域(100a)和一个第二光学关注区域(100b)，所述清洁装置(5)包括至少一个波换能器(70，70a，70b)，所述至少一个波换能器被设计成在声学上耦合到所述光学表面(10)，

2.如权利要求1所述的清洁装置(5)，其中，所述至少一个波换能器(70，70a，70b)恰好包括一个波换能器(70)，所述波换能器(70)被配置成产生沿所述第一光学关注区域(100a)的方向传播的第一波(wl1)以及沿所述第二关注光学区域(100b)的方向传播的第二波(wl2)。

3.如权利要求1所述的清洁装置(5)，其中，所述至少一个波换能器(70，70a，70b)包括：

4.如前一项权利要求所述的清洁装置(5)，其中，每个波换能器(70，70a，70b)包括被配置成反射由所述波换能器(70，70a，70b)中的一个产生的波(wl，wl1，wl2)的反射器单元，并且沿所述波换能器(70，70a，70b)中的另一个的方向延伸，使得由所述波换能器(70，70a，70b)产生的波(wl，wl1，

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【专利技术属性】
技术研发人员：A·菲卢克，F·吉罗，F·布列他诺尔，
申请(专利权)人：法雷奥系统公司，
类型：发明
国别省市：