【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本文公开的系统和方法涉及光谱成像，更具体地，涉及经由多孔径成像系统的高精度光谱成像。
技术介绍
1、电磁光谱是电磁辐射(例如，光)在其上延伸的波长或频率的范围。从更长的波长到更短的波长，电磁光谱依序包括无线电波、微波、红外(ir)线、可见光(即，人眼的结构可以检测到的光)、紫外(uv)线、x射线和γ射线。光谱成像是指光谱学和拍摄术的一个分支，其中一些光谱信息或完整光谱被收集在图像面中的位置。多光谱成像系统可以捕获多个光谱带(十几个以下的量级，并且通常在离散的光谱区域)，为此在每个像素处收集光谱带测量值，并且可以参考每个光谱通道的约数十纳米的带宽。高光谱成像系统测量更大数量的光谱带，例如多达200个以上，其中一些沿着电磁光谱的一部分提供连续的窄带采样(例如，纳米级以下的光谱带宽)。
技术实现思路
1、本文公开的多光谱成像系统和技术具有多个特征，没有任何一个单独负责其期望的属性。在不限制如所附权利要求书所表达的范围的情况下，下面将简要地讨论所公开的光谱成像的某些特征。本领域技术人员将理解所公开...
【技术保护点】
1.一种成像系统，包括：
2.根据权利要求1所述的成像系统，其中所述组织区域的3D模型包括3D点云、3D纹理网格、3D参数表面或3D体素网格中的至少一个。
3.根据权利要求1或2所述的成像系统，其中所述指令进一步配置所述一个或多个处理器以至少部分地基于所述3D模型和所述成像系统的先前校准来确定所述组织区域的至少一部分的一个或多个测量。
4.根据权利要求3所述的成像系统，其中所述一个或多个测量包括所述组织区域的一部分的长度测量、面积测量或体积测量中的至少一个。
5.根据权利要求3或4所述的成像系统，其中所述一个或多个测量包...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种成像系统，包括：
2.根据权利要求1所述的成像系统，其中所述组织区域的3d模型包括3d点云、3d纹理网格、3d参数表面或3d体素网格中的至少一个。
3.根据权利要求1或2所述的成像系统，其中所述指令进一步配置所述一个或多个处理器以至少部分地基于所述3d模型和所述成像系统的先前校准来确定所述组织区域的至少一部分的一个或多个测量。
4.根据权利要求3所述的成像系统，其中所述一个或多个测量包括所述组织区域的一部分的长度测量、面积测量或体积测量中的至少一个。
5.根据权利要求3或4所述的成像系统，其中所述一个或多个测量包括所述组织区域的一部分的截面轮廓。
6.根据权利要求3-5中任一项所述的成像系统，其中所述先前校准是基于用所述成像系统对标准化校准目标进行成像来执行的。
7.根据权利要求3-6中任一项所述的成像系统，其中所述一个或多个测量不是基于放置在所述成像系统的视野内的标记来确定的。
8.根据权利要求3-7中任一项所述的成像系统，其中所述指令进一步配置所述一个或多个处理器以至少部分地基于所述一个或多个测量来执行一个或多个诊断分析。
9.根据权利要求3-8中任一项所述的成像系统，其中所述指令进一步配置所述一个或多个处理器以存储至少部分地基于所述一个或多个测量而识别的医疗计费代码。
10.根据权利要求1-9中任一项所述的成像系统，其中所述指令进一步配置所述一个或多个处理器以在识别对应像素集合之前分割所捕获的图像。
11.根据权利要求10所述的成像系统，其中所述分割包括至少识别背景像素和组织区域像素。
12.根据权利要求11所述的成像系统，其中所述背景像素被从对应像素集合的识别中排除。
13.根据权利要求1-12中任一项所述的成像系统，还包括至少一个光源，其被构造成用至少第一预定波段的光照射所述组织区域。
14.根据权利要求1-13中任一项所述的成像系统，其中所述多个图像传感器中的每个图像传感器被构造成在至少第一预定波段和第二波段中对所述组织区域成像，该第二波段不同于所述多个图像传感器中的至少一个其他图像传感器的第二波段。
15.根据权利要求14所述的成像系统，其中所述指令进一步配置所述一个或多个处理器以基于所捕获的图像来获得与所述组织区域相关联的多光谱图像数据。
16.根据权利要求15所述的成像系统，其中所述指令进一步配置所述一个或多个处理器以基于对应于第一预定波段的图像数据来对准所述多光谱图像数据。
17.根据权利要求1-16中任一项所述的成像系统，其中所述组织区域包括创伤、不平整的组织表面、色素沉着过度或病变的至少一部分，例如癌性病变，包括但不限于鳞状细胞癌、基底细胞癌、默克尔细胞癌、黑色素瘤或光化性角化病。
18.根据权利要求1-17中任一项所述的成像系统，其中所述指令进一步配置所述一个或多个处理器以基于所述3d模型检测创伤的边缘、不平整的组织表面、色素沉着过度或病变的至少一部分。
19.根据权利要求18所述的成像系统，其中所述指令进一步配置所述一个或多个处理器以计算创伤的边缘、不平整的组织表面、色素沉着过度或病变相对于创伤的表面、不平整的组织表面、色素沉着过度或病变的一个或多个梯度。
20.根据权利要求19所述的成像系统，其中所述指令进一步配置所述一个或多个处理器以基于所述一个或多个梯度与预定梯度阈值的比较来确定创伤、不平整的组织表面、色素沉着过度或病变的状态。
21.根据权利要求20所述的成像系统，其中所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：杰弗里·E·撒切尔，多米尼克·梅耶，全霈然，易发柳，
申请(专利权)人：光谱MD公司，
类型：发明
国别省市：
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