本发明专利技术使被照射面上的累计照度分布均匀化。一种曝光装置，将来自空间光调制器(10)的光向在扫描方向上被扫描的物体照射，对上述物体进行曝光，具备以照明光对上述空间光调制器(10)进行照明的照明单元(ILU)，上述照明单元(ILU)具有：光学积分器，其供上述照明光入射；和减光构件(FS)，其配置在上述光学积分器的出射面与上述空间光调制器(10)之间的光路上，且配置在不与上述光学积分器和上述空间光调制器(10)接触的位置，减少上述照明光的一部分。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及曝光装置。
技术介绍
1、以往，在制造基于液晶或有机el的显示面板、半导体元件(集成电路等)等电子器件(微型器件)的光刻工序中，使用步进重复方式的投影曝光装置(所谓步进器)或者步进扫描方式的投影曝光装置(所谓扫描步进器(也称为扫描器))等。这种曝光装置对在玻璃基板、半导体晶圆、印刷布线基板、树脂膜等被曝光基板(以下也仅称为基板)的表面上涂布的感光层投影曝光电子器件用的掩模图案。
2、对于制造固定地形成该掩模图案的掩模基板需要时间和经费，因此，已知一种取代掩模基板而使用将微小位移的微镜大量有规则地排列的数字微镜装置(dmd)等空间光调制器(可变掩模图案生成器)的曝光装置(例如，参照专利文献1)。在专利文献1所公开的曝光装置中，例如，将使来自波长375nm的激光二极管(ld)的光与来自波长405nm的ld的光以多模光纤束混合而成的照明光向数字微镜装置(dmd)照射，将来自被倾斜控制的大量微镜各自的反射光经由成像光学系统、微透镜阵列而投影曝光到基板。
3、现有技术文献
4、专利文献
>5、专利文献1：日本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种曝光装置，将来自空间光调制器的光向在扫描方向上被扫描的物体照射，对所述物体进行曝光，其中，
2.一种曝光装置，将来自空间光调制器的光向在扫描方向上被扫描的物体照射，对所述物体进行曝光，其中，
3.一种曝光装置，将来自空间光调制器的光向在扫描方向上被扫描的物体照射，对所述物体进行曝光，其中，具备：
4.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其中，
5.根据权利要求1至4中任一项所述的曝光装置，其中，
6.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其中，
7.根据权利要求3或6所述的曝光装置，其中，
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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种曝光装置，将来自空间光调制器的光向在扫描方向上被扫描的物体照射，对所述物体进行曝光，其中，
2.一种曝光装置，将来自空间光调制器的光向在扫描方向上被扫描的物体照射，对所述物体进行曝光，其中，
3.一种曝光装置，将来自空间光调制器的光向在扫描方向上被扫描的物体照射，对所述物体进行曝光，其中，具备：
4.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其中，
5.根据权利要求1至4中任一项所述的曝光装置，其中，
6.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其中，
7.根据权利要求3或6所述的曝光装置，其中，
8.根据权利要求3或6所述的曝光装置，其中，
9.根据权利要求3、6、7、8中任一项所述的曝光装置，其中，
10.根据权利要求1至9中任一项所述的曝光装置，其中，
11.根据权利要求10所述的曝光装置，其中，
12.根据权利要求10所述的曝光装置，其中，
13.根据权利要求10所述的曝光装置，其中，具备：
14.根据权利要求10所述的曝光装置，其中，
15.根据权利要求10所述的曝光装置，其中，
16.根据权利要求15所述的曝光装置，其中，
17.根据权利要求1至16中任一项所述的曝光装置，其中，
18.根据权利要求1至16中任一项所述的曝光装置，其中，
19.根据权利要求1至18中任一项所述的曝光装置，其中，
20.根据权利要求1至19中任一项所述的曝光装置，其中，
21.根据权利要求1至19中任一项所述的曝光装置，其中，
22.根据权利要求1至20中任一项所述的曝光装置，其中，
23.根据权利要求1至21中任一项所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员：加藤正纪，水野恭志，川户聪，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：
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