【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种真空泵，尤其是优选用于对在半导体器件、液晶面板、led、太阳电池等的制造中使用的处理气体排气的用途的真空泵。
技术介绍
1、在制造半导体器件、液晶面板、led、太阳电池等的制造过程中，将处理气体导入处理腔室内进行蚀刻处理、cvd处理等各种处理。被导入处理腔室的处理气体通过真空泵被排气。一般来说，在需要高清净度的这些制造过程中使用的真空泵是在气体的流路内不使用油的所谓的干式真空泵。作为这样的干式真空泵的代表例，有使配置于转子室内的一对罗茨转子彼此向相反方向旋转来输送气体的容积式真空泵。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本特开平1-077782号公报
5、专利技术所要解决的技术问题
6、处理气体有时包含由副生成物构成的粉体。这样的粉体与处理气体一起流入真空泵内。另外，根据真空泵内的状态(例如温度、压力)，有时在处理气体流入真空泵后在真空泵内生成粉体。大部分粉体与处理气体一起从真空泵被排出，但部分粉体停留在转子室内，并逐渐堆积在转子室内。尤其是，在...
【技术保护点】
1.一种真空泵，其特征在于，具备：
2.根据权利要求1所述的真空泵，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的真空泵，其特征在于，
4.根据权利要求1所述的真空泵，其特征在于，
5.一种决定罗茨转子的形状的方法，其特征在于，包含：
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，
7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，
【技术特征摘要】
1.一种真空泵，其特征在于，具备：
2.根据权利要求1所述的真空泵，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的真空泵，其特征在于，
4.根据权利要求1所述的真空泵，其特征在于，
...
【专利技术属性】
技术研发人员：杉浦哲郎，长山真己，阿纳加·卡玛特卡尔，堀部悠河，大渕真志，
申请(专利权)人：株式会社荏原制作所，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。