一种具有支撑结构的抛光设备制造技术

技术编号:42306872 阅读:17 留言:0更新日期:2024-08-14 15:52
本技术公开了一种具有支撑结构的抛光设备,涉及打磨抛光设备技术领域。本技术包括支撑结构、下磨盘和机箱,还包括机箱和下磨盘,所述下磨盘可转动地与机箱连接,所述支撑结构连接于机箱,所述支撑结构顶部抵靠于所述下磨盘底面。本技术通过环状结构能够解决下磨盘水泄漏的问题,避免泄漏的水与驱动电机和电控元件接触,避免造成安全事故。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于打磨抛光设备,特别是涉及一种具有支撑结构的抛光设备


技术介绍

1、在对零部件进行打磨抛光时,通常会将零部件放置到水平设置的打磨盘上,从而使打磨盘对零部件进行打磨抛光。或者采用上下两个打磨盘对零部件进行打磨抛光,从而使零部件得到打磨。然而这种打磨设备都需要利用位于下侧的打磨盘对零部件进行支撑,使零部件的高度保持稳定,从而确保零部件的打磨抛光质量。

2、但是打磨盘中心位置对零部件的打磨效果最差,而打磨盘的距离转动中心越远的位置,与零部件的相对速度更大,打磨效果越好。但是当零部件距离打磨盘的中心越远,也就越容易造成打磨盘重心偏移而发生倾斜,从而造成零部件损坏或者造成安全事故。


技术实现思路

1、本技术的目的在于提供一种具有支撑结构的抛光设备,用于解决打磨盘倾斜的问题。

2、为解决上述技术问题,本技术通过以下技术方案实现的:

3、一种具有支撑结构的抛光设备,包括支撑结构、下磨盘和机箱,还包括机箱和下磨盘,所述下磨盘可转动地与机箱连接,所述支撑结构连接于机箱,所述支撑结构顶部抵靠于所述下磨盘底面。

4、采用支撑结构支撑下磨盘底面,即可使下磨盘底部得到支撑结构的支撑作用,从而避免下磨盘受力发生倾斜的现象,进一步确保了零部件的加工质量。

5、所述支撑结构包括支撑轮、轮轴及定位片,所述支撑轮与轮轴可转动连接,所述支撑轮抵靠于下磨盘,所述支撑轮的轴线与下磨盘的一条直径平行,所述轮轴开设有定位槽,所述定位槽的开口方向与所述轮轴轴线垂直,所述定位片卡入所述定位槽。

6、采用支撑轮抵靠于下磨盘,在下磨盘转动时,支撑轮与下磨盘滚动摩擦,能够减少支撑轮与下磨盘之间的磨损。定位片与定位槽配合可以对轮轴的轴向位置进行固定。而定位片与定位槽的配合具有更低的精度,定位槽可以在任意尺寸的轮轴上进行加工。相比普通的卡簧固定的方式,一个定位片可以对轮轴轴向方向完全固定,而一个卡簧只能阻挡轮轴沿轴线的一个方向。也就是说,以轮轴的轴线方向为左右方向,一个定位片可以对轮轴的左右方向上进行位置固定,而一个卡簧则需要一个面进行配合,并且只能对左向或者右向进行位置固定。并且卡簧为标准件,轮轴的尺寸必须与卡簧的尺寸对应,对轮轴的加工成本或购买成本会提高,从而导致设备成本提高。

7、所述支撑结构还包括固定座,所述固定座设置有固定孔,所述轮轴与所述固定孔连接,所述定位片与所述固定座固定连接。

8、固定座与定位片和轮轴配合,在定位片与固定座固定连接的情况下,轮轴与固定座的相对位置也就得到了固定。

9、所述支撑轮为轴承。

10、轴承的强度高,不易被下磨盘磨损,能够增长维护周期,提高设备的使用寿命。并且轴承的外圈和内圈相对转动,使轴承的内圈与轮轴之间没有相对转动,在定位片的作用下,轮轴本身也无法发生转动,避免了轮轴磨损而造成支撑高度变化,确保支撑结构的支撑精度,从而确保零部件的加工精度。

11、还包括升降支架和上磨盘,所述上磨盘可转动地与升降支架连接,所述升降支架用于控制上磨盘上磨盘的高度。

12、设置升降支架升降时,上磨盘的高度会发生改变,从而便于零部件的取放。

13、所述升降支架包括导向柱和升降平台,所述升降平台可滑动地与所述导向柱连接,所述导向柱竖直设置。

14、设置导向柱能够用于对升降平台的移动方向进行约束,从而约束上磨盘的移动方向。确保上磨盘与下磨盘之间的位置对应。

15、所述导向柱与所述机箱连接,所述升降平台与所述机箱之间设置有直线机构。

16、采用直线机构既能够为升降平台提供升降的动力,也能够改变上磨盘的下压力,从而控制打磨效果。所述直线机构可以是气缸或者丝杠等结构。

17、还包括环状结构,所述环状结构与所述下磨盘顶面连接。

18、当下磨盘对零部件进行打磨时,输入到下磨盘上的水会受到环状结构的阻挡作用。环状结构从周向对水进行阻挡,防止水在离心力作用下洒落。因此,在下磨盘工作时,只需要输入一定量的水即可,环状结构能够将水约束在下磨盘上方,既避免了水的洒落,也能够减少打磨加工的用水量,达到节约用水的效果。

19、所述环状结构与所述下磨盘之间设置有密封结构。

20、密封结构能够进一步提高对水的约束效果,确保水不会从环状结构与下磨盘之间的缝隙泄漏。

21、所述上磨盘的直径小于所述环状结构的内径。

22、上磨盘能够与下磨盘配合进行双面打磨,而环状结构不会对上磨盘形成阻挡,确保上磨盘能够进入环状结构内进行打磨工作。

23、所述环状结构底端内径大于顶端内径。

24、在水受到下磨盘的转动离心力时,会沿当水环的内侧面上移,而环状结构内侧面顶部直径小于底部直径,会对上移的水起到导向作用,使水重新下落到上磨盘中部,达到避免水洒落的效果,同时也使得水能够不断地循环运动,起到更好的冷却以及冲洗效果。

25、还包括孔板,所述孔板设置有定位孔,所述定位孔用于约束零部件的位置。

26、采用定位孔约束零部件的位置,能够使零部件与下磨盘的中心距离在一定的范围内,从而确保上磨盘和下磨盘的打磨效率,也能够使所有的零部件打磨效果一致,提高了所有零部件的加工精度。

27、本技术具有以下有益效果:

28、本技术通过环状结构能够解决下磨盘水泄漏的问题,避免泄漏的水与驱动电机和电控元件接触,避免造成安全事故。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种具有支撑结构的抛光设备,其特征在于:包括支撑结构(13)、下磨盘(1)和机箱(8),还包括机箱(8)和下磨盘(1),所述下磨盘(1)可转动地与机箱(8)连接,所述支撑结构(13)连接于机箱(8),所述支撑结构(13)顶部抵靠于所述下磨盘(1)底面。

2.根据权利要求1所述的一种具有支撑结构的抛光设备,其特征在于:所述支撑结构(13)包括支撑轮、轮轴及定位片,所述支撑轮与轮轴可转动连接,所述轮轴开设有定位槽(18),所述定位槽(18)的开口方向与所述轮轴轴线垂直,所述定位片卡入所述定位槽(18)。

3.根据权利要求2所述的一种具有支撑结构的抛光设备,其特征在于:所述支撑结构(13)还包括固定座,所述固定座设置有固定孔,所述轮轴与所述固定孔连接,所述定位片与所述固定座固定连接。

4.根据权利要求2所述的一种具有支撑结构的抛光设备,其特征在于:所述支撑轮为轴承。

5.根据权利要求4所述的一种具有支撑结构的抛光设备,其特征在于:还包括升降支架和上磨盘(3),所述上磨盘(3)可转动地与升降支架连接,所述升降支架用于控制上磨盘(3)的高度。

6.根据权利要求5所述的一种具有支撑结构的抛光设备,其特征在于:所述升降支架包括导向柱(7)和升降平台(6),所述升降平台(6)可滑动地与所述导向柱(7)连接,所述导向柱(7)竖直设置。

7.根据权利要求6所述的一种具有支撑结构的抛光设备,其特征在于:所述导向柱(7)与所述机箱(8)连接,所述升降平台(6)与所述机箱(8)之间设置有直线机构。

8.根据权利要求1所述的一种具有支撑结构的抛光设备,其特征在于:还包括环状结构(2),所述环状结构(2)与所述下磨盘(1)顶面连接。

9.根据权利要求8所述的一种具有支撑结构的抛光设备,其特征在于:所述环状结构(2)底端内径大于顶端内径。

10.根据权利要求1所述的一种具有支撑结构的抛光设备,其特征在于:还包括孔板(11),所述孔板(11)设置有定位孔(12),所述定位孔(12)用于约束零部件的位置。

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【技术特征摘要】

1.一种具有支撑结构的抛光设备,其特征在于:包括支撑结构(13)、下磨盘(1)和机箱(8),还包括机箱(8)和下磨盘(1),所述下磨盘(1)可转动地与机箱(8)连接,所述支撑结构(13)连接于机箱(8),所述支撑结构(13)顶部抵靠于所述下磨盘(1)底面。

2.根据权利要求1所述的一种具有支撑结构的抛光设备,其特征在于:所述支撑结构(13)包括支撑轮、轮轴及定位片,所述支撑轮与轮轴可转动连接,所述轮轴开设有定位槽(18),所述定位槽(18)的开口方向与所述轮轴轴线垂直,所述定位片卡入所述定位槽(18)。

3.根据权利要求2所述的一种具有支撑结构的抛光设备,其特征在于:所述支撑结构(13)还包括固定座,所述固定座设置有固定孔,所述轮轴与所述固定孔连接,所述定位片与所述固定座固定连接。

4.根据权利要求2所述的一种具有支撑结构的抛光设备,其特征在于:所述支撑轮为轴承。

5.根据权利要求4所述的一种具有支撑结构的抛光设备,其特征在于:还包括升降支架和上...

【专利技术属性】
技术研发人员:黎玉华伍玮杨伟
申请(专利权)人:四川中科卓尔光学有限公司
类型:新型
国别省市:

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