【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光学测量领域，涉及一种基于双通道剪切差分测量的面形轮廓重构系统及方法。
技术介绍
1、光学元件面形检测方法可以分为直接法与间接法两种类型：直接法通过测量待测元件面形矢高函数或光学位相差分布从而得到元件面形；间接法则是测量待测元件面形的微分几何量，如空间差分、局部斜率或曲率等信息，并通过一系列物理转化过程将待测信息转换为可观测的物理量。测量系统得到待测元件面形的微分几何量信息后，需要重构算法还原待测面形分布函数，因而光学面形检测的精度不仅与测量设备本身的误差有关，也与面形重构算法有关，因此面形重构算法是测量系统精度的关键组成部分。
2、双通道剪切差分非对称干涉测量系统如图1所示，在前选择之前进行平行分束，得到两个同步测量的非对称干涉测量系统；非对称干涉是在相干相消的偏振干涉的基础之上，再人为引入一个固定的且与待测量不同的参量，如图2所示，使测量系统处于接近相干相消却又不完全相干相消的状态，最终利用探测器观测光斑的强度分布或其他可观测物理量获得测量系统“指针”的偏移，从而获得待测量的信息。非对称干涉测量系统主要有前...
【技术保护点】
1.基于双通道剪切差分测量的面形轮廓重构系统，其特征在于：该系统包括单波长光源(1)、平行分束部分、前选择部分、后选择部分和信号处理部分；
2.基于权利要求根据权利要求1所述的双通道剪切差分面形测量重构方法，其特征在于：通过扫描式面形测量对待测表面进行扫描测量，利用双通道干涉测量系统特性得到空间二阶差分相位差；根据待测面形的空间二阶差分相位，构建待测面形二阶差分相位关系重构模型，通过最小二乘法求解重构矩阵得到待测相位，获取待测面形信息；具体为：
【技术特征摘要】
1.基于双通道剪切差分测量的面形轮廓重构系统，其特征在于：该系统包括单波长光源(1)、平行分束部分、前选择部分、后选择部分和信号处理部分；
2.基于权利要求根据权利要求1所述的双通道剪切差分面形测量重构方法，其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴鹏，陈璋毅，吴昊，杨正，
申请(专利权)人：中国科学院重庆绿色智能技术研究院，
类型：发明
国别省市：
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