一种TOPCon太阳能电池及其制备方法技术

技术编号:42246504 阅读:18 留言:0更新日期:2024-08-02 13:56
本发明专利技术公开了一种TOPCon太阳能电池及其制备方法,属于TOPCon电池领域,采用LPCVD工艺在N型硅片背面制备隧穿氧化层和多晶硅层,并在多晶硅层上沉积一层氧化层;利用激光轰击对背面金属区域表面的氧化层进行开槽处理,裸漏出拟重掺区域;进行背面磷扩散处理,利用表面氧化层阻挡,在背面金属区和非金属区形成高低浓度掺杂区域;利用RCA对氧化层进行清洗。本发明专利技术的有益效果是:在掺杂多晶硅层上增加一层氧化层,并激光开槽和磷扩散,在背面金属区和非金属区形成高低浓度掺杂区域,有效改善了背面金属接触区域接触,降低非金属区域表面复合,从而提升FF和Uoc,最终提升电池片效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及topcon电池领域,具体而言,涉及一种topcon太阳能电池及其制备方法。


技术介绍

1、近年来,随着perc电池量产效率已到达理论极限,新一代量产电池n型topcon效率远超perc逐渐取代其成为市场主流。在n型topcon电池量产过程中,随着新技术的不断开发与叠加,在现有正面选择性发射极叠加激光诱导烧结技术的基础下,n型topcon电池量产效率也进入到了当下的瓶颈阶段,为实现更高的电池片效率转换,提高产品市场竞争力,背面选择性发射极技术应运而生。

2、目前行业内多采用poly finger结构以完成背面选择性发射极结构制备,主要方法包括光刻法和激光法等,这些方法均是采用直接或间接方法去除非金属接触区域外的n+poly层,形成poly finger结构以满足背面金属接触和表面复合的优化。而其中光刻法成本过高,激光法耗时较长且损伤较大,两者量产电池片条件均较苛刻。

3、有鉴于此,本专利技术人针对这一需求展开深入研究,遂有本案产生。


技术实现思路

1、为解决现有技术中背面本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种TOPCon太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种TOPCon太阳能电池的制备方法,其特征在于,步骤一中,采用LPCVD工艺在多晶硅层上沉积氧化层,氧化层沉积时间为1000-1500s,温度为650-750℃,压力为200000-300000mtorr,O2流量为2000-3000sccm。

3.根据权利要求1所述的一种TOPCon太阳能电池的制备方法,其特征在于,步骤一中,采用LPCVD工艺在多晶硅层上沉积氧化层,氧化层沉积时间为1000-1500s,温度为650-750℃,压力为200000-300000mtor...

【技术特征摘要】

1.一种topcon太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种topcon太阳能电池的制备方法,其特征在于,步骤一中,采用lpcvd工艺在多晶硅层上沉积氧化层,氧化层沉积时间为1000-1500s,温度为650-750℃,压力为200000-300000mtorr,o2流量为2000-3000sccm。

3.根据权利要求1所述的一种topcon太阳能电池的制备方法,其特征在于,步骤一中,采用lpcvd工艺在多晶硅层上沉积氧化层,氧化层沉积时间为1000-1500s,温度为650-750℃,压力为200000-300000mtorr,o2流量为2000-3000sccm。

4.根据权利要求1所述的一种topcon太阳能电池的制备方法,其特征在于,步骤一中,隧穿氧化层沉积时间为800-1200s,温度为550-650℃,压力为700000-800000mtorr,o2流量为30000-40000sccm,厚度为1-2nm;

5.根据权利要求1所述的一种topcon太阳能电池的制备方法,其特征在于,步骤二中,激光轰击时,激光器功率为100-300w,激光波长为400-550nm,频率为30-50khz,开槽宽度为80-...

【专利技术属性】
技术研发人员:丁田力郭世成王方圆葛宏豪
申请(专利权)人:淮安捷泰新能源科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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