导气装置及刻蚀设备制造方法及图纸

本发明专利技术属于半导体技术领域，公开了导气装置及刻蚀设备。导气装置用于将工艺气体导入刻蚀设备的反应腔内，包括导气块、第一导气管、第二导气管以及导气组件。导气块固定于刻蚀设备的上盖并具有第一导气通道，第一导气管与第一导气通道及刻蚀设备的反应腔连通；导气组件设置于刻蚀设备的机壳并具有与第二导气管连通的第二导气通道，当上盖闭合机壳时，导气块抵紧导气组件且第一导气通道与第二导气通道密封连通，当上盖打开时，导气块能与导气组件分离。以此相比于采用波纹管输送气体，该导气装置在使用过程中能够有效降低工艺气体在进入反应腔时将颗粒带入的可能性，也就能够有效降低对反应腔造成污染的可能性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体，尤其涉及导气装置及刻蚀设备。

技术介绍

1、在晶圆刻蚀过程中，工艺管路的清洁度和密封性对于保证产品质量和生产环境的稳定性至关重要。工艺管路系统通常涉及到流体、气体或其他敏感介质的传输，这些介质对于任何形式的污染都极为敏感。因此，管路的连接方式和所使用的材料都必须经过严格的筛选和测试。

2、现有技术中，刻蚀设备包括机壳和能够封闭机壳的反应腔室的上盖，上盖需要选择性的打开或闭合，因此与上盖连接的管路通常采用可变形管路，比如波纹管，波纹管连接技术通过利用波纹管自身的弹性变形来实现管路的连接和密封。

3、但是，在开关上盖时，由于波纹管会随之发生弯曲，波纹管在弯曲过程中，其表面和内部可能会因为应力作用而产生微小的颗粒或碎片（particle），这些particle在管路系统开启或关闭的过程中，可能会随着流体或气体的流动而进入工艺腔室，从而污染反应腔室的环境。

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供导气装置及刻蚀设备，解决了现有技术中在上盖开关过程中，波纹管随之产生弯曲形本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.导气装置，其特征在于，用于将工艺气体导入刻蚀设备的反应腔内，包括：

2.根据权利要求1所述的导气装置，其特征在于，所述浮动块(43)内具有沿竖直方向延伸的第一通道(411)和沿水平方向延伸的第二通道(412)，所述第一通道(411)与所述第二通道(412)连通以形成所述第二导气通道(41)。

3.根据权利要求2所述的导气装置，其特征在于，所述导气组件(4)还包括：

4.根据权利要求2所述的导气装置，其特征在于，所述导气组件(4)还包括：

5.根据权利要求4所述的导气装置，其特征在于，所述顶杆(45)螺纹连接于所述固定块(42)以调节所述...

【技术特征摘要】

1.导气装置，其特征在于，用于将工艺气体导入刻蚀设备的反应腔内，包括：

2.根据权利要求1所述的导气装置，其特征在于，所述浮动块(43)内具有沿竖直方向延伸的第一通道(411)和沿水平方向延伸的第二通道(412)，所述第一通道(411)与所述第二通道(412)连通以形成所述第二导气通道(41)。

3.根据权利要求2所述的导气装置，其特征在于，所述导气组件(4)还包括：

4.根据权利要求2所述的导气装置，其特征在于，所述导气组件(4)还包括：

5.根据权利要求4所述的导气装置，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙文彬，王显亮，林洋洋，
申请(专利权)人：无锡邑文微电子科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：