一种基于标准校准文件的曝光图形位置偏差校准方法技术

本发明专利技术涉及光刻机曝光校准，具体涉及一种基于标准校准文件的曝光图形位置偏差校准方法，利用光刻机机台曝光制作均匀分布位置识别点的金版；分别测量得到金版处于不同方位下各位置识别点对应的位置测量值，并计算得到金版的整版位置偏差；按照预设规律对整版位置偏差中的数据进行排布，即可得到标准校准文件；根据标准校准文件对光刻机机台曝光形成的图形位置偏差进行校准；本发明专利技术提供的技术方案能够有效克服现有技术所存在的不能对光刻机机台曝光形成的图形位置偏差进行有效校准的缺陷。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光刻机曝光校准，具体涉及一种基于标准校准文件的曝光图形位置偏差校准方法。

技术介绍

1、在掩膜版的制作中，光刻过程至关重要，其中掩膜版的位置精度point accuracy(点位置测量值与设计位置值之间的差值)尤为关键，如果实际图形位置与客户要求的设计位置相差较远，那么产品就面临报废的风险。

2、此外，虽然光刻机机台保持在一个稳定的温湿度环境中，但是光刻机机台的实际情况与理想情况之间仍然存在一定的差异，所以需要对光刻机机台进行校准，从而能够将光刻机描绘出的掩膜版的位置精度控制在要求范围内。然而，现有技术中并没有一种能够对光刻机机台曝光形成的图形位置偏差进行有效校准的方法。

技术实现思路

1、(一)解决的技术问题

2、针对现有技术所存在的上述缺点，本专利技术提供了一种基于标准校准文件的曝光图形位置偏差校准方法，能够有效克服现有技术所存在的不能对光刻机机台曝光形成的图形位置偏差进行有效校准的缺陷。

3、(二)技术方案

4、为实现以上目的，本专利技术通过本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基于标准校准文件的曝光图形位置偏差校准方法，其特征在于：包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的基于标准校准文件的曝光图形位置偏差校准方法，其特征在于：S2中分别测量得到金版处于不同方位下各位置识别点对应的位置测量值，包括：

3.根据权利要求2所述的基于标准校准文件的曝光图形位置偏差校准方法，其特征在于：所述预先选定若干旋转角度，并确定金版的基准位置，包括：

4.根据权利要求2所述的基于标准校准文件的曝光图形位置偏差校准方法，其特征在于：S2中计算得到金版的整版位置偏差，包括：

5.根据权利要求4所述的基于标准校准文件的曝光图形位置...

【技术特征摘要】

1.一种基于标准校准文件的曝光图形位置偏差校准方法，其特征在于：包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的基于标准校准文件的曝光图形位置偏差校准方法，其特征在于：s2中分别测量得到金版处于不同方位下各位置识别点对应的位置测量值，包括：

3.根据权利要求2所述的基于标准校准文件的曝光图形位置偏差校准方法，其特征在于：所述预先选定若干旋转角度，并确定金版的基准位置，包括：

4.根据权利要求2所述的基于标准校准文件的曝光图形位置偏差校...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐兵，
申请(专利权)人：合肥清溢光电有限公司，
类型：发明
国别省市：