【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及片上单模光波导测量，具体为一种片上单模光波导有效折射率的测量方法。
技术介绍
1、光子集成技术能够将多种光子器件进行片上集成，具有低延迟、高并行、与互补金属氧化物半导体制造工艺兼容等优点，目前已被广泛应用于光开关、光调制器、波分复用器等光通信领域；并为新兴的光计算领域提供实施平台用于提高神经网络计算速率和能效，在手写数值识别、图像分类等智能计算处理具有广阔应用前景。
2、片上单模光波导作为光子集成电路和光子计算芯片的基础器件，大量使用的片上条形和脊形波导在高质量光子链路设计中具有重要作用。有效折射率是片上单模光波导的关键性能参数，决定了片上单模光波导中光的传播常数和相位信息，是光子器件设计和相位匹配条件计算中必须考虑的重要因素；另外片上单模光波导的有效折射率也能用于对片上单模光波导实际形状误差进行评估，在检查、优化、完善制作工艺方面能发挥重要作用。
3、目前片上单模光波导的研究大多专注于提高光谱消光比、提高带宽、以及降低器件尺寸等方面，更多的追求光子器件光谱波形测试结果，很少对片上单模光波导有效折射...
【技术保护点】
1.一种片上单模光波导有效折射率的测量方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种片上单模光波导有效折射率的测量方法，其特征在于，所述第一和第二散点集的构建公式分别为：
3.根据权利要求2所述的一种片上单模光波导有效折射率的测量方法，其特征在于，所述第二马赫曾德干涉结构中第一个波谷的级次值M的计算，包括以下步骤：
4.根据权利要求1所述的一种片上单模光波导有效折射率的测量方法，其特征在于，所述级次系数K的取值范围是根据波导有效折射率的估值而限定的。
5.根据权利要求4所述的一种片上单模光波导有效折射率的...
【技术特征摘要】
1.一种片上单模光波导有效折射率的测量方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种片上单模光波导有效折射率的测量方法，其特征在于，所述第一和第二散点集的构建公式分别为：
3.根据权利要求2所述的一种片上单模光波导有效折射率的测量方法，其特征在于，所述第二马赫曾德干涉结构中第一个波谷的级次值m的计算，包括以下步骤：
4.根据权利要求1所述的一种片上单模光波导有效折射率的测量方法，其特征在于，所述级次系数k的取值范围是根据波导有效折射率的估值而限定的。
5.根据权利要求4所述的一种片上单模光波导有效折射率的测量方法，其特征在于，所述级次系数k为正整数。
【专利技术属性】
技术研发人员：祝连庆，廖杰，鹿利单，董明利，陈光，陈伟强，
申请(专利权)人：北京信息科技大学，
类型：发明
国别省市：
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