【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及芯片设计领域，特别是涉及一种纹理采样方法、电子设备及存储介质。
技术介绍
1、立方体映射是使用六张正方形的图片进行纹理映射，这六张图片分别对应了一个立方体中的六个面，这个立方体是轴对齐的，每个面用坐标系中的六个轴方向来惟一的表示：正x面，负x面，正y面，负y面，正z面，负z面。对应这六个面的六张纹理图称为“cubemap”。目前纹理采样是通过顶点上的纹理坐标(u,v)来进行的。对于一个二维纹理来说，(u,v)能惟一确定了纹理元素的位置。但由于cube map有六张纹理图，仅仅给出(u,v)坐标无法确定像素位置。因此，在cube mapping中，通过一个三维的向量实现映射，以一对一地确定纹理中对应的纹理元素。该三维向量是以立方体的中心为起点指向立方体外。该三维向量与立方体的交点对应的纹理元素就是映射结果对应的纹理元素。
2、在进行纹理采样时，目前一般采用内存寻址的方式进行处理，当请求在纹理内存范围内时是标准的情况，但当寻址请求超出了边界，一般将超出范围用零代替或者超出范围用边界值代替等。但是这些处理方式都是按照...
【技术保护点】
1.一种纹理采样方法，其特征在于，所述纹理采样方法包括软件执行的软件采样指令和硬件执行的通用采样指令，当硬件执行通用采样指令时实现以下步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，P100中，afaceid由纹理面编号和软件采样指令发送的其他指定信息按照预设排列规则组成，且纹理面编号和其他指定信息的数据位宽小于等于多线程寄存器的数据位宽。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述纹理面编号为afaceid的高K位或低K位。
4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，afaceid满足：
5.根据权利要求4所述的...
【技术特征摘要】
1.一种纹理采样方法，其特征在于，所述纹理采样方法包括软件执行的软件采样指令和硬件执行的通用采样指令，当硬件执行通用采样指令时实现以下步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，p100中，afaceid由纹理面编号和软件采样指令发送的其他指定信息按照预设排列规则组成，且纹理面编号和其他指定信息的数据位宽小于等于多线程寄存器的数据位宽。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述纹理面编号为afaceid的高k位或低k位。
4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，afaceid满足：
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，p200还包括：提取afaceid的低k位得到face，提取afaceid的高位得到slice。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员：吕正光，
申请(专利权)人：沐曦集成电路上海有限公司，
类型：发明
国别省市：
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