【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于高纯光纤材料存储容器清洗，具体的说，涉及一种用于清洗超高纯光纤材料存储容器的方法。
技术介绍
1、超高纯光纤材料存储容器用于存储纯度达到8个n以上的光纤用超高纯四氯化锗。光纤用四氯化锗与普通四氯化锗相比，砷、铅等有害杂质元素不能被检测出，碳氢、氢氧、氢氯等基团的红外吸收峰透过率要高于97%以上。因此，超高纯光纤材料存储容器在使用过程中，对其内壁的洁净度要求极高。由于其内部存储的物品纯度极高，因此哪怕是非常微量的杂质带入都会影响其存储产品的质量，降低其良率。
2、对于用于存储超高纯光纤材料的容器不管是新的容器，还是使用过以后被污染的容器，在灌装超高纯四氯化锗之前，必须对存储容器进行彻底清洗，以防止存储容器内的杂质对超高纯四氯化锗造成二次污染。
3、相关技术中公开号为cn219683514u的《一种四氯化锗储料罐清洗装置》，用以解决现有技术中无法对储存罐内部进行持续冲洗，清洗效果差的技术问题。该专利中提供的四氯化锗储料罐清洗装置，安装座形成有清洗区，压紧组件沿竖直方向活动安装于安装座，且位于清洗区的上方...
【技术保护点】
1.一种用于清洗超高纯光纤材料存储容器的方法，所述存储容器包括用于盛装超高纯光纤材料的罐体本体；其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种用于清洗超高纯光纤材料存储容器的方法，其特征在于，所述步骤（1）中纯水浸泡时往罐体本体内注入1/3容积的纯水进行浸泡，用洁净布沾纯水擦拭罐体本体整个内壁，擦拭结束后排出纯水。
3.根据权利要求1所述的一种用于清洗超高纯光纤材料存储容器的方法，其特征在于，所述步骤（2）中在罐体本体内注入的混合酸溶液量以没过罐体本体底部为准。
4.根据权利要求1所述的一种用于清洗超高纯光纤材料存储容器的...
【技术特征摘要】
1.一种用于清洗超高纯光纤材料存储容器的方法，所述存储容器包括用于盛装超高纯光纤材料的罐体本体；其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种用于清洗超高纯光纤材料存储容器的方法，其特征在于，所述步骤（1）中纯水浸泡时往罐体本体内注入1/3容积的纯水进行浸泡，用洁净布沾纯水擦拭罐体本体整个内壁，擦拭结束后排出纯水。
3.根据权利要求1所述的一种用于清洗超高纯光纤材料存储容器的方法，其特征在于，所述步骤（2）中在罐体本体内注入的混合酸溶液量以没过罐体本体底部为准。
4.根据权利要求1所述的一种用于清洗超高纯光纤材料存...
【专利技术属性】
技术研发人员：张虎，曹杨，海淑，张阳阳，刘婷，王博文，李欣桦，胡光瑞，
申请(专利权)人：云南驰宏国际锗业有限公司，
类型：发明
国别省市：
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