【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及抛光材料领域,具体涉及一种超细氧化铈抛光粉及其制备工艺。
技术介绍
1、超细氧化铈(ceo2)因其优异的抛光性能和催化性能,被广泛应用于抛光材料、催化剂、紫外线吸收剂等领域。为了满足这些应用需求,制备出粒径均匀、纯度高、形貌可控的超细氧化铈纳米粉体显得尤为重要。目前,制备超细氧化铈的方法主要为化学沉淀法。
2、化学沉淀法是一种传统的制备方法,其主要通过在溶液中加入沉淀剂,使氧化铈前驱体发生沉淀反应,得到沉淀物后再进行煅烧处理。然而,该方法存在以下几个主要问题:
3、粒径控制困难:在化学沉淀法中,沉淀反应速度和条件难以精确控制,容易导致产物的粒径分布不均匀,影响抛光效果。
4、纯度问题:沉淀过程中容易引入杂质,影响最终产品的纯度,进而影响其在高要求应用中的性能。
5、形貌可控性差:由于反应条件的不易控制,最终产物的形貌难以保持一致性,这对实际应用中的性能稳定性产生负面影响。
技术实现思路
1、为解决上述技术问题,本专利技术提供一种
...【技术保护点】
1.一种超细氧化铈抛光粉的制备工艺,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的一种超细氧化铈抛光粉的制备工艺,其特征在于,所述第一搅拌条件的搅拌速度为200-300rpm,搅拌温度为25-30℃,搅拌时间为15-30分钟。
3.根据权利要求1所述的一种超细氧化铈抛光粉的制备工艺,其特征在于,其特征在于,以质量分数计,所述乙醇的加入量为所述固态乙酸铈的200%-400%,所述柠檬酸的加入量为所述固态乙酸铈质量的5%至10%。
4.根据权利要求1所述的一种超细氧化铈抛光粉的制备工艺,其特征在于,所述第二搅拌条件的搅拌速度为20
...【技术特征摘要】
1.一种超细氧化铈抛光粉的制备工艺,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的一种超细氧化铈抛光粉的制备工艺,其特征在于,所述第一搅拌条件的搅拌速度为200-300rpm,搅拌温度为25-30℃,搅拌时间为15-30分钟。
3.根据权利要求1所述的一种超细氧化铈抛光粉的制备工艺,其特征在于,其特征在于,以质量分数计,所述乙醇的加入量为所述固态乙酸铈的200%-400%,所述柠檬酸的加入量为所述固态乙酸铈质量的5%至10%。
4.根据权利要求1所述的一种超细氧化铈抛光粉的制备工艺,其特征在于,所述第二搅拌条件的搅拌速度为200-300rpm,搅拌温度为25℃,搅拌时间为15-20分钟。
5.根据权利要求1所述的一种超细氧化铈抛光粉的制备工艺,其特征在于,...
【专利技术属性】
技术研发人员:路英杭,郭辉,杜明月,贾兵,杨作振,
申请(专利权)人:淄博力之信新材料科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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