用于大长径比管材的磁控溅射装置及其镀膜方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种用于大长径比管材的磁控溅射装置及其镀膜方法。磁控溅射装置包括管材、电动滑轨、键钮、进气管道、环形靶系统、滑轨传动装置以及真空系统：管材具有腔体；电动滑轨位于腔体内，开设有多个通孔；键钮填充于通孔中；进气管道与电动滑轨内连通；环形靶系统与电动滑轨滑动连接；滑轨传动装置位于管材的一端与电动滑轨传动连接；真空系统位于管材的另一端。本申请实施例通过在电动滑轨上设置键钮填充通孔，环形靶系统按压键钮即时连通并释放气体，其他键钮保持密封，提高了不同区域气体浓度的均匀性，解决了镀膜均匀性、稳定性不足的问题；设备结构简单，各系统之间相互独立，仪器的维修和查错方便。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及镀膜设备，具体而言，本申请涉及一种用于大长径比管材的磁控溅射装置及其镀膜方法。

技术介绍

1、化工、熔炼、核电、船舶、交通等各个行业领域的工业管道系统中，具有大长径比的细长管材内壁均已被广泛应用。在实际的应用过程中，管材内部将面临腐蚀、氧化、摩擦、冲蚀等诸多极端复杂环境条件。因此，在管材内壁沉积或镀覆保护膜往往是一种有效且常见的表面处理改性手段，这使得管材内壁具有一定的抗氧化、耐蚀、抗磨损等性能，进而显著延长其使用寿命，如化工管道、输送管道、炮管等。

2、传统的电镀方法在管材内壁镀膜时，所需的化学试剂毒性较大，电镀后留下的废液较难处理。此外，采用电镀法在管材内壁镀覆多层膜的难度较大，难以使膜层具有复杂精细结构。而采用化学气相沉积法在管材内壁镀膜时，所需温度一般高于大多金属材料的使用温度，超出管材的温度承受范围而破坏管材原有性能。采用磁控溅射镀膜速度快、温度变化小，具有更大的应用优势。

3、申请号为cn202121842996和cn202121843819的中国专利均公开了用于大长径比金属管材内壁镀膜的磁控溅射装置，所述专利本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于大长径比管材的磁控溅射装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的用于大长径比管材的磁控溅射装置，其特征在于，所述电动滑轨沿所述管材的轴线方向延伸，所述键钮的运动方向平行于所述管材的径向方向。

3.根据权利要求1所述的用于大长径比管材的磁控溅射装置，其特征在于，所述通孔呈阵列分布于所述电动滑轨的侧壁，任意两个相邻的所述通孔之间的间距相等，所述键钮与所述通孔一一对应。

4.根据权利要求3所述的用于大长径比管材的磁控溅射装置，其特征在于，单个所述键钮包括工作状态和待机状态，在所述工作状态下，所述环形靶系统按压所述键钮，所述环形靶与所述电动...

【技术特征摘要】

1.一种用于大长径比管材的磁控溅射装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的用于大长径比管材的磁控溅射装置，其特征在于，所述电动滑轨沿所述管材的轴线方向延伸，所述键钮的运动方向平行于所述管材的径向方向。

3.根据权利要求1所述的用于大长径比管材的磁控溅射装置，其特征在于，所述通孔呈阵列分布于所述电动滑轨的侧壁，任意两个相邻的所述通孔之间的间距相等，所述键钮与所述通孔一一对应。

4.根据权利要求3所述的用于大长径比管材的磁控溅射装置，其特征在于，单个所述键钮包括工作状态和待机状态，在所述工作状态下，所述环形靶系统按压所述键钮，所述环形靶与所述电动滑轨内连通，在所述待机状态下，所述键钮与所述环形靶系统相离，所述键钮堵塞所述通孔。

5.根据权利要求1所述的用于大长径比管材的磁控溅射装置，其特征在于，所述真空系统包括抽真空装置和真空转接头，所述真空转接头位于所述抽真空装置与所述管材之间，所述真空转接头的一端与所述抽真空装置连接，另一端通过...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭健，王传彬，徐书朋，王君君，徐志刚，章嵩，涂溶，沈强，张联盟，
申请(专利权)人：化学与精细化工广东省实验室潮州分中心，
类型：发明
国别省市：