【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光学透镜阵列制备，具体涉及一种微纳光学晶圆级透镜阵列的制备方法。
技术介绍
1、传统晶圆级光学透镜阵列的工艺制备是通过模具的面型加工后再进行翻转压印，而翻转压印的过程中往往会存在变量。例如传统工艺下使用胶制stamp压印模版时，由于胶制stamp压印模版的变异量大，无法迅速、稳定地验证出产品的表面形状特征、无法长期使用，寿命较短。目前如何优化改善该问题，是本领域技术人员需要解决的技术问题。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种微纳光学晶圆级透镜阵列的制备方法，本专利技术提供的方法解决了传统工艺使用胶制stamp压印模版制备微纳光学晶圆级透镜阵列时存在的变异量大、寿命短等问题。
2、为了实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：
3、本专利技术提供了一种微纳光学晶圆级透镜阵列的制备方法，包括以下步骤：
4、在晶圆级光学透镜阵列模具表面涂覆络合物层；
5、在所述络合物层表面电解沉积金属，分离出形成的金属层，得到金属压印模版
6、本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种微纳光学晶圆级透镜阵列的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述络合物层的材料包括络盐、络酸或络碱；
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述晶圆级光学透镜阵列模具的材质包括铝、镍、金或铜。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述金属压印模版的材质包括镍或铅。
5.根据权利要求1或4所述的制备方法，其特征在于，所述金属压印模版的厚度为5~15mm。
6.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，当所述金属压印模版的材质为镍时，所述电...
【技术特征摘要】
1.一种微纳光学晶圆级透镜阵列的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述络合物层的材料包括络盐、络酸或络碱；
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述晶圆级光学透镜阵列模具的材质包括铝、镍、金或铜。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述金属压印模版的材质包括镍或铅。
5.根据权利要求1或4所述的制备方法，其特征在于，所述金属压印模版的厚度为5~15mm。
【专利技术属性】
技术研发人员：王海冲，朱龙，户华晨，袁万利，
申请(专利权)人：华天慧创科技西安有限公司，
类型：发明
国别省市：
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