【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及薄膜沉积制备,具体是一种电子束蒸发过程动态模拟仿真系统和方法。
技术介绍
1、电子束蒸发过程是利用高能量电子束将材料加热至蒸发温度,从而使其蒸发并沉积在衬底表面,形成薄膜的工艺,可用于半导体制备等领域。对于初次接触该领域的技术人员而言,这种发生在微观层面的蒸发过程难以直观理解,因此有必要借助模拟仿真的方法帮助初学者形象地认知电子束蒸发及薄膜生成的动态过程。然而目前,电子束蒸发过程的仿真方法还存在如下问题:缺乏定量动态仿真的方法,电子束蒸发薄膜的生长过程是非线性的,并且受到许多因素影响,现有的方法无法定量模拟电子束蒸发薄膜形成的动态过程。该方法和系统可以定量模拟电子束蒸发薄膜形成的动态过程,并对该动态过程可视化展示,辅助技术人员学习、理解电子束蒸发及薄膜形成的微观过程。
技术实现思路
1、(1)要解决的技术问题
2、本专利技术的目的在于提供一种电子束蒸发过程动态模拟仿真系统和方法,以解决电子束蒸发薄膜形成的动态过程难以定量模拟和可视化的问题。
3、(2)
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【技术保护点】
1.一种电子束蒸发过程动态模拟仿真方法,其特征在于,所述方法包括:
2.如权利要求1所述电子束蒸发过程动态模拟仿真方法,其特征在于,所述将第一质量差矩阵进行二维拟合,得到第一档案关系映射的方法包括:
3.如权利要求1所述电子束蒸发过程动态模拟仿真方法,其特征在于,所述根据仿真作用时间T1、预设增长速度Vset、第一仿真厚度H1,建立第一薄膜增长方程组,求得第一仿真厚度增速v(t)的方法包括:
4.如权利要求1所述电子束蒸发过程动态模拟仿真方法,其特征在于,所述根据仿真作用时间T1、第一仿真厚度H1、第一仿真厚度增速v(t)、图形放大
...【技术特征摘要】
1.一种电子束蒸发过程动态模拟仿真方法,其特征在于,所述方法包括:
2.如权利要求1所述电子束蒸发过程动态模拟仿真方法,其特征在于,所述将第一质量差矩阵进行二维拟合,得到第一档案关系映射的方法包括:
3.如权利要求1所述电子束蒸发过程动态模拟仿真方法,其特征在于,所述根据仿真作用时间t1、预设增长速度vset、第一仿真厚度h1,建立第一薄膜增长方程组,求得第一仿真厚度增速v(t)的方法包括:
4.如权利要求1所述电子束蒸发过程动态模拟仿真方法,其特征在于,所述根据仿真作用时间t1、第一仿真厚度h1、第一仿真厚度增速v(t)、图形放大倍数z1、时间拉伸倍数z2、预先设定的动态仿真帧数n,在三维坐标系上建立第一薄膜动态三维模型,通过所述电子束蒸发过程模拟人机交互模型的输出界面展示所述第一薄膜动态三维模型的...
【专利技术属性】
技术研发人员:恽成,李子婧,
申请(专利权)人:上海巅思智能科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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