【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光刻胶制备配比，具体为一种黑色光刻胶制备用配比装置。
技术介绍
1、光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、x射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体，常用的是黑色光刻胶，在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料，半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像，在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶，在制备的时候，每个原料的配比都需要配比装置进行称量。
2、但是，现有光刻胶制备配比时多数是一个一个进行配比，配比一个后需要清理好再进行第二个配比，清理的时候就需要停机操作，导致配比效率低；因此，不满足现有的需求，对此我们提出了一种黑色光刻胶制备用配比装置。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种黑色光刻胶制备用配比装置，以解决上述
技术介绍
中提出的现有光刻胶制备配比时多数是一个一个进行配比，配比一个...
【技术保护点】
1.一种黑色光刻胶制备用配比装置，包括中心立柱（1），所述中心立柱（1）的下端设置有转动柱（2），所述中心立柱（1）的上端焊接设置有连接盘（12），所述连接盘（12）的一端设置有下料斗（13）；
2.根据权利要求1所述的一种黑色光刻胶制备用配比装置，其特征在于：所述转动柱（2）的内部设置有衔接座（17），所述电机轴（19）和变频电机（18）的另一端通过固定板（20）外接螺栓分别与衔接座（17）和中心立柱（1）螺纹连接。
3.根据权利要求1所述的一种黑色光刻胶制备用配比装置，其特征在于：所述转动柱（2）的下端设置有底板（3），所述底板（3）的上端...
【技术特征摘要】
1.一种黑色光刻胶制备用配比装置，包括中心立柱（1），所述中心立柱（1）的下端设置有转动柱（2），所述中心立柱（1）的上端焊接设置有连接盘（12），所述连接盘（12）的一端设置有下料斗（13）；
2.根据权利要求1所述的一种黑色光刻胶制备用配比装置，其特征在于：所述转动柱（2）的内部设置有衔接座（17），所述电机轴（19）和变频电机（18）的另一端通过固定板（20）外接螺栓分别与衔接座（17）和中心立柱（1）螺纹连接。
3.根据权利要求1所述的一种黑色光刻胶制备用配比装置，其特征在于：所述转动柱（2）的下端设置有底板（3），所述底板（3）的上端设置有支撑柱（16），且支撑柱（16）与底板（3）为一体结构，所述支撑柱（16）与转动柱（2）之间通过滚珠轴承（15）转动连接。
4.根据权利要求1所述的一种黑色光刻胶制备用配比装置，其特征在于：所述第一受力板（5）和第二受力板（6）与转动柱（2）之间均设置有连接座（7），且连接座（...
【专利技术属性】
技术研发人员：宗健，李红岩，
申请(专利权)人：江苏博砚电子科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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