【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种热反射板,其在例如半导体、电子零件的领域可用作对晶片、基板等从低温至高温进行热处理的各种热处理装置的热反射板,加热、冷却的1循环所需的时间较短,且具有高反射率,因此热处理装置可节能化,又可抑制污染。
技术介绍
1、在半导体晶片的制造或处理工序中,为对半导体晶片赋予各种性质而进行热处理作业。例如,将半导体晶片收纳在高纯度石英制的炉芯管中,控制炉芯管内的环境来进行热处理作业。用于该热处理工序的热处理装置中,为了维持炉内的高温与防止向炉床部散热,而在炉内与炉床之间设置有保温体(盖体)以堵住炉开口部。
2、作为此种保温体,有如下保温体,其具有封闭热处理室的开口部、相互分离积层且露出在热处理室的石英板,该保温体具有如下特征,即,石英板的表面平滑且无气泡,在石英板的内部形成有金薄膜,且金薄膜是通过金蒸镀而形成(例如参照专利文献1)。
3、并且,揭示有如下技术,即,在具有供石英管穿过中心的孔及供石英棒穿过的孔的石英板之上,利用网版印刷来涂布向铂(pt)及氧化物(sio、pbo等)的混合物中添加有机物并制成膏状
...【技术保护点】
1.一种热反射板,其特征在于具有:
2.根据权利要求1所述的热反射板,其特征在于,所述反射体的至少包含反射面的表面层包含Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag或Cu,或包含含有选自由Ir、Pt、Rh、Ru、Re、Hf、Mo、Al、Mg、Co、Ni、Fe、Sn、Ge、Au、Ag或Cu所组成的群中的至少1种的合金。
3.根据权利要求1所述的热反射板,其特征在于,所述板状外装的材质是氧化硅或硅。
4.根据权利要求1所述的热反射板,其特征在于,所述板状外装具有层合板构造,该层合板构造具
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种热反射板,其特征在于具有:
2.根据权利要求1所述的热反射板,其特征在于,所述反射体的至少包含反射面的表面层包含ir、pt、rh、ru、re、hf、mo、al、mg、co、ni、fe、sn、ge、au、ag或cu,或包含含有选自由ir、pt、rh、ru、re、hf、mo、al、mg、co、ni、fe、sn、ge、au、ag或cu所组成的群中的至少1种的合金。
3.根据权利要求1所述的热反射板,其特征在于,所述板状外装的材质是氧化硅或硅。
4.根据权利要求1所述的热反射板,其特征在于,所述板状外装具有层合板构造,该层合板构造具有第1外装板与第2外装板对向配置且周缘部彼此沿周缘环状连续接合而成的接合部。
5.根据权利要求4所述的热反射板,其特征在于,所述层合板构造具有空腔,该空腔设置在所述第1外装板及所述第2外装板的相对向的面之间,且在所述第1外装板侧及所述第2外装板侧中的至少一侧通过所述周缘部彼此的接合部封闭而成,
6.根据权利要求5所述的热反射板,其特征在于,至少在所述第1外装板侧具有所述空腔,
7.根据权利要求5所述的热反射板,其特征在于,所述第1外装板是平板,
8.根据权利要求5所述的热反射板,其特征在于,所述反射体是板或箔,且包含ir、pt、rh、ru、re、hf、mo、al、mg、co、ni、fe、sn、ge、au、ag或cu,或包含含有选自由ir、pt、rh、ru、re、hf、mo、al、mg、co、ni、fe、sn、ge、au、ag或cu所组成的群中的至少1种的合金。
9.根据权利要求5所述的热反射板,其...
【专利技术属性】
技术研发人员:丸子智弘,石黒好裕,松村尊信,大川裕也,
申请(专利权)人:株式会社古屋金属,
类型:发明
国别省市:
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