一种可分区王水浸泡清洗一体箱制造技术

本技术提供了一种可分区王水浸泡清洗一体箱，包括清洗箱体，清洗箱体内部一体连接有中隔板，且通过中隔板将清洗箱体分为王水浸泡区和纯水清洗区，王水浸泡区内部设置有对王水浓度进行检测的Ph检测仪，纯水清洗区内部设置有对纯水导电率进行检测的离子仪，纯水清洗区内部放置有用于放置坩埚的清洗花篮，且在清洗花篮的下方设置有超声波发生器。本技术将清洗箱体分为王水浸泡区和纯水清洗区，实现浸泡清洗于一体，无需更换容器，节省空间与人力，操作简单高效；也实时监控王水浓度，当低于所浓度后，及时补充酸液，无需重新配置；在王水清洗区安装超声波清洗机，可以提高坩埚表面甚至内部洁净度，提高清洗质量。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及坩埚清洗，尤其涉及一种可分区王水浸泡清洗一体箱。

技术介绍

1、碲锌镉(czt)既是液相外延碲镉汞(hgcdte)薄膜的最佳衬底材料，同时也是制造室温核辐射探测器的理想材料，因此高质量、大面积czt单晶体的制备一直以来备受关注。

2、czt单晶制备常用坩埚作为反应容器，坩埚表面一旦存在杂质，在合成过程中会导致单晶直径难以增大，晶体中会有大量典型缺陷生成，因此坩埚清洗对晶体生长有着至关重要的影响。目前，将坩埚浸泡在王水中能很好的去除表面甚至内部的杂质是一种有效的去除杂质的方法，然后用纯水冲洗至坩埚表面无王水残留后备用。

3、现有技术的缺陷和不足：

4、1.目前行业内所用王水容器多为烧杯与pp酸碱缸，浸泡王水后的坩埚等器件需要转移到另外容器冲洗，费时费力。

5、2.王水极不稳定易挥发基本现用现配，比较繁琐。

6、3.在清洗过程中，纯水冲洗只能清洗表面，微纳米级内部结构清洗困难。

7、4.纯水中的离子浓度检测不及时在浸泡纯水时，坩埚表面有残留导致长晶引入杂质，严重影响晶体质量。...

【技术保护点】

1.一种可分区王水浸泡清洗一体箱，包括清洗箱体(1)，其特征在于，所述清洗箱体(1)内部一体连接有中隔板(5)，且通过中隔板(5)将清洗箱体(1)分为王水浸泡区(11)和纯水清洗区(12)，所述王水浸泡区(11)内部设置有对王水浓度进行检测的Ph检测仪(6)，所述纯水清洗区(12)内部设置有对纯水导电率进行检测的离子仪(4)，所述纯水清洗区(12)内部放置有用于放置坩埚的清洗花篮(3)，且在清洗花篮(3)的下方设置有超声波发生器(2)，所述超声波发生器(2)固定连接在纯水清洗区(12)的内底部，所述清洗箱体(1)的上侧设置有盖板(7)，且盖板(7)沿着清洗箱体(1)顶部左右移动。

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【技术特征摘要】

1.一种可分区王水浸泡清洗一体箱，包括清洗箱体(1)，其特征在于，所述清洗箱体(1)内部一体连接有中隔板(5)，且通过中隔板(5)将清洗箱体(1)分为王水浸泡区(11)和纯水清洗区(12)，所述王水浸泡区(11)内部设置有对王水浓度进行检测的ph检测仪(6)，所述纯水清洗区(12)内部设置有对纯水导电率进行检测的离子仪(4)，所述纯水清洗区(12)内部放置有用于放置坩埚的清洗花篮(3)，且在清洗花篮(3)的下方设置有超声波发生器(2)，所述超声波发生器(2)固定连接在纯水清洗区(12)的内底部，所述清洗箱体(1)的上侧设置有盖板(7)，且盖板(7)沿着清洗箱体(1)顶部左右移动。

2.根据权利要求1所述的一种可分区王水浸泡清洗一体箱，其特征在于，所述清洗箱体(1)的右侧固定连接有进水口(122)，且进水口(122)与纯水清洗区(12)相连通。

3.根据权利要求2所述的一种可分区王水浸泡清洗一体箱，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：李玥，聂贺，余杰，
申请(专利权)人：合肥天曜新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：