【技术实现步骤摘要】
本申请涉及半导体尾气处理,尤其涉及一种集成式尾气处理设备。
技术介绍
1、随着科技的发展,芯片的需求越来越多,在芯片的生产过程中,有很多工序会产生各种酸性废气、碱性废气或者有机废气等,例如在化学气相沉积、干法刻蚀、湿法刻蚀以及各种清洗环节中均会产生各种尾气。随着环保要求的不断提高,工业废气的排放要求也不断提高,因此,对半导体尾气处理设备的要求也越来越高。
2、在半导体行业的尾气处理设备中通常包括本地处理环节和厂务端中央处理环节,其中,本地处理环节通常是使用半导体尾气处理设备进行尾气的处理。半导体尾气处理设备通常会经过高温燃烧分解,之后进行水洗,水洗后的尾气中含有大量的水汽,因此,需要将水洗后尾气中的水汽进行分离,之后再进入厂务端的中央处理系统进行下一轮的处理。
3、现有技术中的水汽分离器通常存在水汽分离效果不理想,导致排放的尾气中水汽含量大。因此,基于上述问题,现有技术有待进一步改进。
技术实现思路
1、为了解决上述技术问题,本申请提供了一种集成式尾气处理设备,该集
...【技术保护点】
1.一种集成式尾气处理设备,其特征在于,包括干泵和尾气处理装置,所述干泵和所述尾气处理装置之间通过管道相互连通;所述尾气处理装置包括水汽分离装置,所述水汽分离装置包括从下至上连通设置的第一分离腔体和第二分离腔体;所述第一分离腔体中设置有第一筒体和第二筒体,所述第一筒体顶部开口且底部设置有排水阀,所述第一分离腔体和所述第一筒体之间形成第一流通通道,所述第二筒体套设在第一筒体内,所述第二筒体顶部和底部均开口,所述第一筒体和第二筒体之间形成第二流通通道,所述第二筒体内部形成第三流通通道,尾气进入第一分离腔体后沿第一流通通道向上流通,之后进入第一筒体内并沿第二流通通道向下流通
...【技术特征摘要】
1.一种集成式尾气处理设备,其特征在于,包括干泵和尾气处理装置,所述干泵和所述尾气处理装置之间通过管道相互连通;所述尾气处理装置包括水汽分离装置,所述水汽分离装置包括从下至上连通设置的第一分离腔体和第二分离腔体;所述第一分离腔体中设置有第一筒体和第二筒体,所述第一筒体顶部开口且底部设置有排水阀,所述第一分离腔体和所述第一筒体之间形成第一流通通道,所述第二筒体套设在第一筒体内,所述第二筒体顶部和底部均开口,所述第一筒体和第二筒体之间形成第二流通通道,所述第二筒体内部形成第三流通通道,尾气进入第一分离腔体后沿第一流通通道向上流通,之后进入第一筒体内并沿第二流通通道向下流通,进入第二筒体内并沿第三流通通道向上流通,最后进入第二分离腔体。
2.根据权利要求1所述的集成式尾气处理设备,其特征在于,所述第二分离腔体内设置有涡旋冷凝组件。
3.根据权利要求1所述的集成式尾气处理设备,其特征在于,所述第一流通通道内设置有若干个文丘里管,尾气进入第一分离腔体后进入所述文丘里管并向上流通。
4.根据权利要求1所述的集成式尾气处理设备,其特征在于,所述第二筒体内设置有螺旋向上的冷凝板。
5.根据权利要求2所述的集成式尾气处理设备...
【专利技术属性】
技术研发人员:崔汉博,杜全成,
申请(专利权)人:上海高笙集成电路设备有限公司,
类型:发明
国别省市:
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