应力分布精密检测装置及方法制造方法及图纸

技术编号:42036656 阅读:33 留言:0更新日期:2024-07-16 23:22
本申请提供一种应力分布精密检测装置及方法,该装置采用可变频率相位调制器,使用高频变化信号对内应力的数值和轴向角度进行放大调节,设置两个信号探测器,更精准、全面的获取待测产品的应力数据,设置有动中空旋转台,带动起偏器、第一检偏器和第二检偏器进行角度的精准调节,使用步进电机直线模组对待测样品进行移动,确保样品移动过程的精确度。该检测方法,在检测样品之前先进行检测装置的校准修正,包括激光光路对准调节和偏振组件调节,消除装置本身所会带来的误差风险,并使用多个标准片标定验证相位调制器的振荡峰值,令结果更具有信服力,综合提高待测样品的残余应力整体检测精度和结果,满足透明材料制品更高应力限制的生产与使用。

【技术实现步骤摘要】

本申请属于应力检测领域,尤其涉及一种应力分布精密检测装置及方法


技术介绍

1、玻璃、塑料、半导体晶片等透明制品在制作成型过程中会产生残余内应力,对产品本身的结构强度、光学特性等都有比较严重的品质影响,而这些透明制品逐渐在前沿科技领域展现重要作用,诸如摄影镜头的光学特性、生物实验相关的器皿、半导体芯片的衬底材料等。

2、现有应力检测手段包括光弹性贴片法、干涉条纹法、塞纳蒙特法以及光敏法等,这些测量方法需要待测样品产生足够的光程差,即残余应力要达到一定大的程度才能检测出来,否则不易通过眼睛或机器视觉判定其相位改变量,多为粗略测量,且无法避免光源/检测机构本身带来的光程差的误差,随着生产技术和质量要求的提高,对于高精端生产领域使用的玻璃或晶圆来说,其残余应力的限制也相应提高,目前市场上常见的应力仪因为本身装置结构和测量方式的原因已经无法满足更高精度的检测。


技术实现思路

1、鉴于以上,本专利技术提供一种应力分布精密检测装置及方法,可以精确的检测出样品细微的残余应力,提高检测质量。具体技术方案如下。...

【技术保护点】

1.一种应力分布精密检测装置,其特征在于:包括机台框架和设置在其上的激光器、第一反射镜、第二反射镜、起偏器、相位调制器、移动载台、半透半返镜和检偏模组,所述激光器发射出的激光依次经过第一反射镜、第二反射镜、起偏器、相位调制器、移动载台、半透半返镜和检偏模组,所述检偏模组包括第一检偏器、第一信号探测器、第二检偏器和第二信号探测器,第一检偏器和第一信号探测器位于半透半返镜的透射方向,接收其透射过来的光线,第二检偏器和第二信号探测器位于半透半返镜的反射方向,接收其反射过来的光线,所述移动载台用来承载待测样品,第一信号探测器和第二信号探测器连接计算机进行数据显示和处理。>

2.根据权利...

【技术特征摘要】

1.一种应力分布精密检测装置,其特征在于:包括机台框架和设置在其上的激光器、第一反射镜、第二反射镜、起偏器、相位调制器、移动载台、半透半返镜和检偏模组,所述激光器发射出的激光依次经过第一反射镜、第二反射镜、起偏器、相位调制器、移动载台、半透半返镜和检偏模组,所述检偏模组包括第一检偏器、第一信号探测器、第二检偏器和第二信号探测器,第一检偏器和第一信号探测器位于半透半返镜的透射方向,接收其透射过来的光线,第二检偏器和第二信号探测器位于半透半返镜的反射方向,接收其反射过来的光线,所述移动载台用来承载待测样品,第一信号探测器和第二信号探测器连接计算机进行数据显示和处理。

2.根据权利要求1所述的应力分布精密检测装置,其特征在于:所述起偏器、第一检偏器和第二检偏器各自通过电动中空旋转平台设置在机台框架上,启动电动中空旋转平台可带动起偏器、第一检偏器和第二检偏器独立在水平方向旋转。

3.根据权利要求1所述的应力分布精密检测装置,其特征在于:所述移动载台包括x轴直线模组、y轴直线模组和样品载台,所述样品载台设置在x轴直线模组上,并在其驱动下进行x轴方向的水平运动,x轴直线模组设置在y轴直线模组上,并在其驱动下进行y轴方向的水平运动,所述样品载台为玻璃载台,x轴直线模组、y轴直线模组使用步进电机进行驱动,保证位移的精度。

4.一种应力分布精密检测方法,采用如权利要求1-3中任一所述的装置进行测量,其特征在于:包括如下步骤,

5.根据权利要求4所述的应力分布精密检测方法,其特征在于:对于使用一组标准片标定验证相位调制器的振荡峰值,在移动载台上放置一组光程差已知的标准样品,依次分别采集这组内每个标准片在第一信号探测器和...

【专利技术属性】
技术研发人员:闫飞马磊彭俊葛达标
申请(专利权)人:苏州精创光学仪器有限公司
类型:发明
国别省市:

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