【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种借助共焦传感器对技术表面进行光学测量的方法，其中，光源(11)的光经由光学系统对准待测量的样品表面，其中，该光学系统包括照明掩模(13)、传感器矩阵(15)、用于使得照明光路和检测光路组合的分光镜(14)以及成像光学系统(6)，其中，照明掩模(13)由棋盘图案状布置的透明区域(1)和不透明的或者几乎不透明/略微透明的区域(2)组成，其中，照明掩模(13)上的图案的间距(3)相应于传感器矩阵(15)的像素间距(24)，并且其中，照明掩模(13)和传感器矩阵(15)相互校准，使得透明区域(1)和传感器矩阵(15)的像素借助成像光学系统(6)同时清晰地成像到样本(7)上，由此，照明掩模(13)的清晰图像被清晰地成像到传感器矩阵(15)上，使得在此形成由较亮和较暗的像素组成的棋盘状图案。本专利技术还涉及一种用于执行该方法的装置。
技术介绍
1、迄今为止，通常通过使用分光镜将照明和检测相结合并且随后引入共焦滤光片来实现平面共焦成像。例如是多小孔旋转盘(尼普科夫圆盘)、设置有小孔的固定小孔图案、微透镜阵列或微透镜阵列和小孔图案的组...
【技术保护点】
1.一种借助共焦传感器对技术表面进行光学测量的方法，其中，使光源(11)的光经由光学系统对准待测量的样品表面，其中，该光学系统包括照明掩模(13)、传感器矩阵(15)、用于使照明光路和检测光路组合的分光镜(14)以及成像光学系统(6)，其中，照明掩模(13)由棋盘图案状布置的透明区域(1)和不透明的或者几乎不透明的区域(2)形成，其中，照明掩模(13)上的图案的间距(3)相应于传感器矩阵(15)的像素间距(24)，其中，照明掩模(13)和传感器矩阵(15)相互校准，使得透明区域(1)和传感器矩阵(15)的像素借助成像光学系统(6)同时清晰地成像到样本(7)上，由此，照...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种借助共焦传感器对技术表面进行光学测量的方法，其中，使光源(11)的光经由光学系统对准待测量的样品表面，其中，该光学系统包括照明掩模(13)、传感器矩阵(15)、用于使照明光路和检测光路组合的分光镜(14)以及成像光学系统(6)，其中，照明掩模(13)由棋盘图案状布置的透明区域(1)和不透明的或者几乎不透明的区域(2)形成，其中，照明掩模(13)上的图案的间距(3)相应于传感器矩阵(15)的像素间距(24)，其中，照明掩模(13)和传感器矩阵(15)相互校准，使得透明区域(1)和传感器矩阵(15)的像素借助成像光学系统(6)同时清晰地成像到样本(7)上，由此，照明掩模(13)的清晰图像被清晰地成像到传感器矩阵(15)上，使得在此形成由较亮和较暗的像素组成的棋盘状图案，
2.根据权利要求1所述的用于对技术表面进行光学测量的方...
【专利技术属性】
技术研发人员：M·A·韦伯，
申请(专利权)人：布莱特迈尔测量技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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