【技术实现步骤摘要】
本技术涉及清洗设备,尤其涉及一种用于制备防结焦涂层的基片清洗装置。
技术介绍
1、在工业设备中,热端部件通常会产生高温,例如炉炉管、燃烧器、锅炉等。当热端部件表面的温度过高时,会导致结焦现象的发生,因此需要使用到防结焦涂层,在通过气相沉积法制备防结焦涂层时,需要对沉积涂层的基片进行清洗,避免表面有杂质和污垢影响制备的效果和质量。
2、现有技术中,在对基片进行清洗时,传统的方式,往往采用毛刷或其他工具进行清洗,但是毛刷或其他工具通常只能清洗到基片表面,无法彻底去除难以触及的污垢,未去除的污垢,在沉积反应后,可能会影响制备后的涂层质量,并且传统的清洗方式,容易产生划痕和刮伤,对基片的质量和性能造成不利影响。
技术实现思路
1、本技术克服了现有技术的不足,提供一种用于制备防结焦涂层的基片清洗装置。
2、为达到上述目的,本技术采用的技术方案为:一种用于制备防结焦涂层的基片清洗装置,包括:工作台和设置在所述工作台顶部内侧的若干清洗框,以及设置在所述工作台顶部的清洗移动组件;<
...【技术保护点】
1.一种用于制备防结焦涂层的基片清洗装置,其特征在于,包括:工作台(1)和设置在所述工作台(1)顶部内侧的若干清洗框(11),以及设置在所述工作台(1)顶部的清洗移动组件;
2.根据权利要求1所述的一种用于制备防结焦涂层的基片清洗装置,其特征在于:所述固定框(24)的内侧转动连接有转动杆(3),所述转动杆(3)的侧面设置有方向相反的螺纹,若干所述夹板(25)的内侧与所述转动杆(3)的侧面螺纹连接,所述转动杆(3)位于所述固定框(24)外部的一端设置有六角螺母(31)。
3.根据权利要求1所述的一种用于制备防结焦涂层的基片清洗装置,其特征在于:所
...【技术特征摘要】
1.一种用于制备防结焦涂层的基片清洗装置,其特征在于,包括:工作台(1)和设置在所述工作台(1)顶部内侧的若干清洗框(11),以及设置在所述工作台(1)顶部的清洗移动组件;
2.根据权利要求1所述的一种用于制备防结焦涂层的基片清洗装置,其特征在于:所述固定框(24)的内侧转动连接有转动杆(3),所述转动杆(3)的侧面设置有方向相反的螺纹,若干所述夹板(25)的内侧与所述转动杆(3)的侧面螺纹连接,所述转动杆(3)位于所述固定框(24)外部的一端设置有六角螺母(31)。
3.根据权利要求1所述的一种用于制备防结焦涂层的基片清洗装置,其特征在于:所述限位滑槽(28)位于相邻所述清洗框(11)一侧的截面形状为w型,若干所述限位滑槽(28)对称设置在所述清洗框(11)的侧面。
4.根据权利要求1所述的一种用于制备防结焦涂层的基片清洗装置,其特征在于:若干所述清洗框(11)呈线性阵列的方式均匀分布在所述工作台(1)顶部的内侧。
5.根据权利要求1所述的一种用于制备防结焦涂层的基片清洗装置,其特征在于:工作台(1)的顶部设置有平移组件,所述平移组件包括:固定在所述工作台(1)顶部的若干固定板(4),设置在所述固定板(4)一侧的伺服电机(41),以及设置在所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:朱权,陈君武,
申请(专利权)人:苏州钛阳新材料有限公司,
类型:新型
国别省市:
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