【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于半导体器件辐照损伤检测分析领域,具体涉及一种用于辐照损伤检测的gan hemt器件及其检测和制作方法。
技术介绍
1、氮化镓(gan)基高电子迁移率晶体管(hemt)由于其独特的宽禁带半导体材料特性,被认为在高频、大功率、高温、和高压等环境中具有显著的应用优势。这一优势结合其卓越的耐辐射能力,使得这类器件在卫星、太空探测、核反应堆等关键领域中具有巨大的应用潜力。然而,在航空航天不同应用场景中,氮化镓hemt器件的辐射性能及工作稳定性仍然存在较大问题,例如单粒子烧毁电压低和阈值电压不稳定性等。理论和实验研究表明,宽禁带氮化镓材料具有原子位移能高等抗辐照特性。在实际生产过程中,由于制造工艺和结构流片具有一定的复杂性,其耐辐照性能会受到相关的影响。例如,异质外延生长技术制造的氮化镓材料中,存在一定量的点缺陷和线缺陷,甚至大面积不均匀性。结合hemt器件中较为复杂的异质结设计,使得器件对于外部引入的辐照效应极为敏感。在工作状态下,由于器件横向电场分布不均匀,特别是在栅极靠近漏极一侧存在尖峰电场,导致器件的性能与稳定性受到影响。
...【技术保护点】
1.一种用于辐照损伤检测的GaN HEMT器件,包括衬底层(1)、氮化镓层(2)、势垒层(3)和介质层,所述势垒层(3)顶面设有环状的p型氮化镓层(4),其特征在于:所述p型氮化镓层内外两侧的所述氮化镓层(2)顶面分别设有环状的透明漏极(5)和透明源极(6),所述p型氮化镓层(4)顶面设有环状的半透明肖特基金属层(7),所述源极(6)与所述p型氮化镓层之间的所述势垒层(3)顶面设有环状的透明第一欧姆金属层(8),所述漏极(5)与所述p型氮化镓层(4)之间的所述势垒层(3)顶面设有环状的透明第二欧姆金属层(9),所述第二欧姆金属层(9)包括多个互为叉指的内齿轮电极(90
...【技术特征摘要】
1.一种用于辐照损伤检测的gan hemt器件,包括衬底层(1)、氮化镓层(2)、势垒层(3)和介质层,所述势垒层(3)顶面设有环状的p型氮化镓层(4),其特征在于:所述p型氮化镓层内外两侧的所述氮化镓层(2)顶面分别设有环状的透明漏极(5)和透明源极(6),所述p型氮化镓层(4)顶面设有环状的半透明肖特基金属层(7),所述源极(6)与所述p型氮化镓层之间的所述势垒层(3)顶面设有环状的透明第一欧姆金属层(8),所述漏极(5)与所述p型氮化镓层(4)之间的所述势垒层(3)顶面设有环状的透明第二欧姆金属层(9),所述第二欧姆金属层(9)包括多个互为叉指的内齿轮电极(901)和外齿轮电极(902),所述内齿轮电极(901)和外齿轮电极(902)之间具有间隔。
2.根据权利要求1所述的用于辐照损伤检测的gan hemt器件,其特征在于:多个所述内齿轮电极(901)的齿根均与外环(903)连接并形成整体,所述外环(903)与所述p型氮化镓层(4)接触;多个所述外齿轮电极(902)的齿根均与内环(904)连接并形成整体,所述内环(904)与漏极(5)之间具有间隔;多个所述内齿轮电极(901)的齿顶均指向所述内环(904)并与之具有间隔,多个所述外齿轮电极(902)的齿顶均指向所述外环(903)并与之具有间隔。
3.根据权利要求2所述的用于辐照损伤检测的gan hemt器件,其特征在于:所述内齿轮电极(901)的齿轮个数z取整数于和之间,其中为p型氮化镓层(4)到漏极(5)的距离,为漏极(5)的直径;所述内齿轮电极(901)的齿轮间距,齿高l2为所述外齿轮电极(902)的齿顶弧长;所述外齿轮电极(902)的齿轮间距,齿高与第二欧姆金属层(9)相等,l1为所述内齿轮电极(901)的齿顶弧长;所述外环(903)的宽度为2~5,所述内环(904)的宽度为2~5,所述内环(904)与漏极(5)的间隔为1.5~2.5并填充150nm~200nm厚的介质层;所述内齿轮电极(901)的齿顶与内环(904)的间隔为1~2,所述外齿轮电极(902)的齿顶与所述外环(903)的间隔为1~2,所述内齿轮电极(901)与外齿轮电极(902)的间距为1~2。
4.根据权利要求3所述的用于辐照损伤检测的gan hemt器件,其特征在于:,所述内齿轮电极(901)的齿根连接弧曲率为1/2~1/3-1并与所述外环(903)相切,所述内齿轮电极(901)的面积,所述内齿轮电极(901)的齿隙弧长为;...
【专利技术属性】
技术研发人员:周峰,邹灿,陆海,徐尉宗,周东,任芳芳,
申请(专利权)人:南京大学,
类型:发明
国别省市:
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