【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及蚀刻线形态图像增强的，尤其涉及多层涂胶掩膜板蚀刻线形态图像增强方法和系统。
技术介绍
1、在半导体制造、精密机械加工以及其他需要精细加工的行业中，多层涂胶掩模版的质量至关重要。掩模版上的蚀刻线需要非常精确，因为任何微小的误差都可能导致最终产品性能不达标。尽管现有技术已经提供了多种图像处理方法来优化掩模版图像的质量，但这些方法仍存在不少局限性，尤其在图像去噪、对比度增强和边缘检测等方面的效果上还有待提高。例如：1）现有的单尺度高斯滤波方法在去噪的同时往往会模糊图像的细节，特别是在蚀刻线的边缘区域。这种滤波处理虽然简单，但由于缺乏对不同图像区域特性的适应性，常常导致重要细节的丢失，从而影响后续的图像分析和处理精度；2）目前的全局对比度增强技术通常会对整个图像进行均匀处理，这在局部光照不均或对比度较低的区域表现不佳；这种方法忽视了图像中局部特征的差异，可能会导致某些区域过度增强，产生不自然的视觉效果或增加噪声；3）现有的canny边缘检测算法等传统方法虽然在多数情况下表现良好，但在处理高噪声或复杂背景的掩模版图像时，很容易受到噪...
【技术保护点】
1.多层涂胶掩膜板蚀刻线形态图像增强方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的多层涂胶掩膜板蚀刻线形态图像增强方法，其特征在于，所述步骤S11中，
3.根据权利要求2所述的多层涂胶掩膜板蚀刻线形态图像增强方法，其特征在于，所述步骤S2中，包括以下步骤：
4.根据权利要求3所述的多层涂胶掩膜板蚀刻线形态图像增强方法，其特征在于，所述步骤S3中，包括以下步骤：
5.根据权利要求4所述的多层涂胶掩膜板蚀刻线形态图像增强方法，其特征在于，所述步骤S4中，包括以下步骤：
6.根据权利要求5所述的多层涂胶...
【技术特征摘要】
1.多层涂胶掩膜板蚀刻线形态图像增强方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的多层涂胶掩膜板蚀刻线形态图像增强方法，其特征在于，所述步骤s11中，
3.根据权利要求2所述的多层涂胶掩膜板蚀刻线形态图像增强方法，其特征在于，所述步骤s2中，包括以下步骤：
4.根据权利要求3所述的多层涂胶掩膜板蚀刻线形态图像增强...
【专利技术属性】
技术研发人员：李弋舟，段聪，钟选飞，
申请(专利权)人：长沙韶光芯材科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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