曝光装置及物品制造方法制造方法及图纸

本公开涉及曝光装置及物品制造方法。用于曝光基板上的多个投射区域的曝光装置包括投影光学系统、被构造为驱动基板的驱动机构、被构造为检测基板的表面高度的检测器，以及被构造为基于检测器的输出来控制驱动机构的控制器。投影光学系统被构造为将原版的图案投影到投影光学系统的像面中的曝光区域。检测器的检测区域大于曝光区域。控制器基于当多个投射区域中的第一投射区域被布置在曝光区域中时所获得的检测器的输出，控制驱动机构对基板的驱动，以曝光多个投射区域中的第二投射区域。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及曝光装置及物品制造方法。

技术介绍

1、在曝光装置中，可以在测量基板上的投射区域(shot region)的高度并基于测量结果调整基板的高度之后，对投射区域进行曝光。日本专利特开第2016-206654号描述了测量基板上的投射区域中的多个测量点的高度(缩小投影透镜系统的光轴方向上的位置)，并且基于测量结果调整基板的高度和倾斜度。

2、在曝光装置中，在基板上的投射区域容纳于投影光学系统的曝光区域(曝光区域是在曝光期间由投影光学系统用光照射的区域)之后开始测量投射区域的高度等，该过程限制了吞吐量。

技术实现思路

1、本专利技术提供有利于提高吞吐量的技术。

2、本专利技术的第一方面提供曝光装置，其用于对基板上的多个投射区域进行曝光，所述曝光装置包括：投影光学系统；驱动机构，其被构造为驱动基板；检测器，其被构造为检测基板的表面高度；以及控制器，其被构造为基于检测器的输出来控制驱动机构，其中，投影光学系统被构造为将原版的图案投影到投影光学系统的像面中的曝光区域，检测器的检测区域大于本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种曝光装置，其用于对基板上的多个投射区域进行曝光，所述曝光装置包括：

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，

3.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，

4.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，

5.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，

6.根据权利要求1至5中任一项所述的曝光装置，其中，

7.根据权利要求1至5中任一项所述的曝光装置，其中，

8.根据权利要求1至5中任一项所述的曝光装置，其中，

9.根据权利要求1至5中任一项所述的曝光装置，其中，

10.根据权利要求1所述的...

【技术特征摘要】

1.一种曝光装置，其用于对基板上的多个投射区域进行曝光，所述曝光装置包括：

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，

3.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，

4.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，

5.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，

6.根据权利要求1至5中任一项所述的曝光装置，其中，<...

【专利技术属性】
技术研发人员：岩田将平，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：