调色剂、显影剂、显影装置及图像形成装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供调色剂、显影剂、显影装置及图像形成装置。所述调色剂，在调色剂粒子中外添加有二氧化硅粒子和平均一次粒径比二氧化硅粒子小的无机微粒。调色剂粒子的形状系数ＳＦ－１为１３０以上、１４０以下，形状系数ＳＦ－２为１２０以上、１３０以下，体积平均粒径为５μｍ以上、８μｍ以下。二氧化硅粒子的平均一次粒径为８０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下，且含水量为１．５重量％以下。二氧化硅粒子的粒度分布为对数正态分布，且二氧化硅粒子的粒径的几何标准差σｇ的值小于１．３０。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在电子照相法或静电印刷法等中用于使潜像显影的调色剂、含有该调色剂的显影剂、使用所述显影剂的显影装置及图像形成装置。
技术介绍
近年来，对于使潜像显像化而形成图像的图像形成装置从各种角度进行了高画质 化的研究，作为具体的动向之一，为了提高分辨力、清晰度的显影剂的改良、特别是调色剂 的小粒径化及近似球形化正在进行。但是，随着调色剂的小粒径化及近似球形化发展，转印 性及清洁性降低，出现导致画质下降的倾向。 对于这样的问题，试图通过在调色剂粒子表面添加粒径约100nm的外添加剂作为 衬垫(spacer)来谋求转印性及清洁性的提高，但是如果不控制外添加剂的粒子尺寸和物 性，则不能充分发挥作为衬垫的功能。 关于外添加剂的粒径，具体而言，如果平均一次粒径过小，则感光鼓或转印带(包 括在记录介质上的直接转印方式和中间转印带方式这两种方式)表面与调色剂之间得不 到衬垫效果，且不能确保清洁性。 如果外添加剂的平均一次粒径过大，则发生调色剂荷质比的降低。作为这种现象 的原因，可以认为是外添加剂的平均一次粒径过大时，大粒径的外添加剂粒子的个数增 加，由于外添加剂调色剂与载体间的空间变得过大，因此，调色剂与载体发生接触障碍，导 致带电不良。另外认为，外添加剂的平均一次粒径增大时，从调色剂粒子上脱离的外添加剂 的量增加，因此不能确保带电性。 关于外添加剂的物性，具体而言，使用外添加有不期望地含有大量水分的外添加 剂的调色剂进行耐印刷试验时，发生调色剂荷质比的降低。结果，调色剂在机器内发生飞 散，所形成的图像的画质下降。其原因在于，通过不期望地含有大量水分的外添加剂电荷泄 漏到调色剂表面。这种现象在外添加剂中含有的含水量超过6. 0重量％时特别显著。 为了解决这样的问题，日本特开2005-202132号公报中公开了一种静电潜像显影 用调色剂，至少包含含有粘合树脂、着色剂及脱模剂的调色剂粒子和外添加剂，其中，外添 加剂至少由体积平均粒径5nm 30nm的小直径粒子和体积平均粒径100nm以上且调色剂 粒径以下的大直径粒子构成，且大直径粒子用电荷控制剂进行表面处理。另外，当设大直径 粒子的体积平均粒径为d5。时，大直径粒子的粒度分布中在0. 3 X d5。 3 X d5。范围内的粒子 的比例为60质量X以上，调色剂的平均形状系数SF1在100 140的范围内。根据日本特 开2005-202132号公报中公开的静电潜像显影用调色剂，能够同时且长期满足调色剂流动 性、带电性、显影性、转印性、清洁性和定影性。 但是，日本特开2005-202132号公报中，并没有考虑大粒径的外添加剂中所含的 含水量。特别是在调色剂中外添加含有含水量超过6. 0重量％的大粒径的外添加剂时，耐 印刷试验中调色剂的荷质比降低，因此，产生形成的图像的画质下降、调色剂在机器内飞散 等问题。另外，大粒径的外添加剂的粒度分布宽，因此为了确保清洁性能而增加大粒径的外添加剂的添加量时，小粒径(特别是30nm以下)的微粒的个数增加，通过该微粒覆盖调色 剂粒子表面至需要程度以上，因此抑制调色剂粒子中含有的脱模剂的渗出效果，可能对定 影性造成不良影响。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种调色剂、含有该调色剂的显影剂、通过使用所述显影 剂能够抑制印刷图像的画质的下降、减少调色剂在机器内飞散的显影装置及图像形成装 置，其中，所述调色剂在小粒径且近似球形的调色剂粒子中外添加有外添加剂，能够确保清 洁性能和定影性，并且能够抑制耐印刷试验中调色剂荷质比的降低。 本专利技术为一种调色剂，在调色剂粒子中外添加有二氧化硅粒子和平均一次粒径比 二氧化硅粒子小的无机微粒，其特征在于， 调色剂粒子的形状系数SF-1为130以上、140以下，形状系数SF-2为120以上、 130以下，体积平均粒径为5 ii m以上、8 ii m以下， 二氧化硅粒子的平均一次粒径为80nm以上、150nm以下，且含水量为1. 5重量％以 下， 二氧化硅粒子的粒度分布为对数正态分布，且二氧化硅粒子的粒径的几何标准差 Og的值小于1.30。 根据本专利技术，调色剂含有调色剂粒子，该调色剂粒子中外添加有二氧化硅粒子和 平均一次粒径比二氧化硅粒子小的无机微粒。调色剂粒子的形状系数SF-1为130以上、140 以下，且形状系数SF-2为120以上、130以下，二氧化硅粒子的平均一次粒径为80nm以上、 150nm以下，且含水量为1. 5重量％以下。 调色剂粒子的形状系数SF-1小于130时，调色剂粒子形状接近正球形，因此即使 外添加平均一次粒径为80nm以上、150nm以下的大粒径二氧化硅粒子，也无法提高清洁性 能。调色剂粒子的形状系数SF-1超过140时，原有的调色剂粒子形状变形，因此即使外添 加平均一次粒径为80nm以上、150nm以下的大粒径二氧化硅粒子，也无法得到进一步提高 清洁性能的效果。另外，转印效率降低。 调色剂粒子的形状系数SF-2小于120时，调色剂粒子表面的凹凸过少，因此，平均 一次粒径80nm以上、150nm以下的大粒径二氧化硅粒子对调色剂粒子的粘附力降低，无法 提高清洁性能。调色剂粒子的形状系数SF-2超过130时，平均一次粒径80nm以上、150nm 以下的大粒径二氧化硅粒子陷入调色剂粒子表面的凹部内，无法发挥大粒径二氧化硅粒子 的衬垫效果，因此转印效率降低。 二氧化硅粒子的平均一次粒径小于80nm时，不仅无法确保清洁性能，而且30nm以 下的小粒径二氧化硅粒子的个数增加，通过该粒子覆盖调色剂粒子表面至需要程度以上， 抑制调色剂粒子中含有的脱模剂的渗出效果，因此定影性变差。二氧化硅粒子的平均一次 粒径超过150nm时，调色剂与载体间的空间变得过大，因此，调色剂与载体发生接触障碍， 出现调色剂荷质比的降低。 二氧化硅粒子的含水量超过1. 5重量％时，调色剂粒子表面所带的电荷通过二氧 化硅粒子发生泄漏，因此调色剂荷质比降低。通过在形状系数SF-1为130以上、14Q以下，且形状系数SF-2为120以上、13Q以下的调色剂粒子中外添加平均一次粒径为80nm以上、150nm以下，且含水量为1. 5重量％以 下的二氧化硅粒子，能够确保对感光鼓及转印带的清洁性能，并且能够抑制耐印刷试验中 调色剂荷质比的降低。通过使用这样的调色剂形成图像，能够抑制印刷图像的画质下降，并 减少调色剂在机器内的飞散。 另外，通过与平均一次粒径为80nm以上、150nm以下的二氧化硅粒子一同外添加 平均一次粒径比该二氧化硅粒子小的无机微粒，外添加处理时调色剂粒子与二氧化硅粒子 的混合性提高，能够使二氧化硅粒子均匀地分散并外添加在调色剂粒子表面上，因此能够 确保调色剂的流动性，并能够加速调色剂带电的上升。如果不与平均一次粒径为80nm以 上、150nm以下的二氧化硅粒子一同外添加平均一次粒径比该二氧化硅粒子小的无机微粒， 则不能使二氧化硅粒子均匀分散于调色剂粒子表面而无法确保调色剂的流动性，因此得不 到性能得到验证的调色剂。 另外，二氧化硅粒子的粒度分布为对数正态分布，且二氧化硅粒子的粒径的几何 标准差o g的值小于1. 30。 二氧化硅粒子的粒径的几何标准差(o g)通过用二氧化硅粒子 的平均粒径除以筛下累计15. 8本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种调色剂，在调色剂粒子中外添加有二氧化硅粒子和平均一次粒径比二氧化硅粒子小的无机微粒，其特征在于，调色剂粒子的形状系数ＳＦ－１为１３０以上、１４０以下，形状系数ＳＦ－２为１２０以上、１３０以下，体积平均粒径为５μｍ以上、８μｍ以下，二氧化硅粒子的平均一次粒径为８０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下，且含水量为１．５重量％以下，二氧化硅粒子的粒度分布为对数正态分布，且二氧化硅粒子的粒径的几何标准差σ↓［ｇ］的值小于１．３０。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：户泉洁，松本香鹤，纪川敬一，
申请(专利权)人：夏普株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]