【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及氢氟酸取样，具体为一种氢氟酸取样装置。
技术介绍
1、氢氟酸是氟化氢气体的水溶液，为无色发烟液体，具有强烈的刺激性气味，并且具有强腐蚀性，剧毒，易溶于水、乙醇，微溶于乙醚。氢氟酸腐蚀性强，可强烈的腐蚀金属、玻璃以及含硅的物质，同时其对人体危害极大，一旦人体误吸入蒸汽或者接触到皮肤就会造成难以治愈的器质性损伤，除作为蚀刻剂外，氢氟酸还可以作为制冷剂，近年来伴随半导体行业的迅速发展，氢氟酸也成为微电子产品制作过程中的关键性基础化工材料之一，可以用于集成电路(ic)和超大规模集成电路(vlsi)芯片的清洗和腐蚀。
2、传统的氢氟酸取样中，通过注射器多次吸取取样，但是这样较为不便，会增加劳动强度，并且在吸取时将氢氟酸漏出，腐蚀桌面。
技术实现思路
1、(一)解决的技术问题
2、针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种氢氟酸取样装置，解决了上述
技术介绍
中提出的问题。
3、(二)技术方案
4、为实现以上目的，本专利技术通过以下技术方案予以实...
【技术保护点】
1.一种氢氟酸取样装置，其特征在于：包括底座(1)、转动设置于底座(1)顶部的转盘(8)，所述转盘(8)顶部设置有储存筒(3)，所述转盘(8)上固定连接有环板(7)，所述环板(7)表面开设有等距离分布的安装孔(701)，所述安装孔(701)内部插设有取样筒(4)，所述储存筒(3)与取样筒(4)之间连通设置有导管(5)，所述导管(5)另一端固定安装有软管(6)，所述软管(6)另一端与取样筒(4)插拔连接，所述导管(5)上固定安装有排液组件(9)；
2.根据权利要求1所述的一种氢氟酸取样装置，其特征在于：所述底座(1)具有一个腔体(101)，所述腔体(101)...
【技术特征摘要】
1.一种氢氟酸取样装置，其特征在于：包括底座(1)、转动设置于底座(1)顶部的转盘(8)，所述转盘(8)顶部设置有储存筒(3)，所述转盘(8)上固定连接有环板(7)，所述环板(7)表面开设有等距离分布的安装孔(701)，所述安装孔(701)内部插设有取样筒(4)，所述储存筒(3)与取样筒(4)之间连通设置有导管(5)，所述导管(5)另一端固定安装有软管(6)，所述软管(6)另一端与取样筒(4)插拔连接，所述导管(5)上固定安装有排液组件(9)；
2.根据权利要求1所述的一种氢氟酸取样装置，其特征在于：所述底座(1)具有一个腔体(101)，所述腔体(101)顶部为敞口结构、底部和圆周侧壁均为封闭结构，所述转盘(8)设置于所述腔体(101)内，所述转盘(8)底部固定连接有转杆(13)，所述转杆(13)下端转动插设于底座(1)内底壁。
3.根据权利要求2所述的一种氢氟酸取样装置，其特征在于：所述转杆(13)上固定套接有棘轮(12)，所述棘轮(12)上开设有圆周分布的条形槽(121)，所述底座(1)内底部固定安装有电机(16)，所述电机(16)输...
【专利技术属性】
技术研发人员：江伟，胡洪峰，谢钺，金国军，
申请(专利权)人：宣城亨泰电子化学材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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