【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及太阳能,特别是涉及一种炉管。
技术介绍
1、当前光伏行业的扩散,氧化、退火、掺杂、pecvd,lpcvd等工艺生产有立式炉和卧式炉两种类型,这两种类型的结构都需要将硅片装在特定的载具中传输入反应腔体内进行工艺,通过通入的特定的反应气体,从而实现对硅片进行特定的镀膜,扩散,氧化和薄膜沉积等工艺。在现有的两层炉管设计中,利用底座和顶壁分别将双层炉管的两端密封起来形成直通的腔体,将待处理的晶圆放在直通腔体内,利用双层炉管上的加热层对直通腔体进行加热或者将炉体设置为内外炉体,将内炉腔封闭的形式。
2、如现有技术中对内外炉管进行安装时,由于内炉管的结构限制,例如现有专利cn116499251b,其内炉管的顶部开口底部封闭且安装有加热元件,为了避免损坏加热元器件只能选择从顶部吊装内炉管,将内炉管从外炉管的顶部插装,而如果现有的加工现场的高度空间有限,内炉管安装的过程中的吊装难度加大或者不能正常安装,大大增加了装配的难度。
技术实现思路
1、本专利技术为了解决上述现有技术中内炉
...【技术保护点】
1.一种炉管,其特征在于,包括外炉管、内炉管、上炉盖、下炉门和旋转装置;
2.如权利要求1所述的炉管,其特征在于,所述内炉管上端开口,内壁设有一圈支撑法兰,所述支撑法兰与所述上炉盖吊装连接。
3.如权利要求1所述的炉管,其特征在于,所述内炉管上端封闭并向上凸出呈半球形的顶盖,所述顶盖的外壁面向上设置呈环形的连接座,所述连接座的内壁设有一圈支撑法兰,所述支撑法兰与所述上炉盖吊装连接。
4.如权利要求1所述的炉管,其特征在于,所述内炉管的下端端面与外炉管下端端面齐平,或者所述内炉管的下端端面超过外炉管下端端面,或者所述外炉管的下端端面超
...【技术特征摘要】
1.一种炉管,其特征在于,包括外炉管、内炉管、上炉盖、下炉门和旋转装置;
2.如权利要求1所述的炉管,其特征在于,所述内炉管上端开口,内壁设有一圈支撑法兰,所述支撑法兰与所述上炉盖吊装连接。
3.如权利要求1所述的炉管,其特征在于,所述内炉管上端封闭并向上凸出呈半球形的顶盖,所述顶盖的外壁面向上设置呈环形的连接座,所述连接座的内壁设有一圈支撑法兰,所述支撑法兰与所述上炉盖吊装连接。
4.如权利要求1所述的炉管,其特征在于,所述内炉管的下端端面与外炉管下端端面齐平,或者所述内炉管的下端端面超过外炉管下端端面,或者所述外炉管的下端端面超过内炉管下端端面。
5.如权利要求1所述的炉管,其特征在于,所述内炉管下端开口处的内壁凸出一圈环形台阶或者设置支撑法兰形成所述支撑台面。
6.如权利要求1所述的炉管,其特征在于,所述内炉管的上端与上炉盖之间连接吊挂座。
7.如权利要求1所述的炉管,其特征在于,所述外炉管上端的外壁上设有外密封法兰,所述上炉盖覆盖所述外炉管与内炉管的上端面,其外边缘与所述外密封法兰密封连接;所述下炉门的外边缘与外炉管下端的台阶密封连接,内边缘与所述磁流体密封组件密封连接。
8.如权利要求1所述的炉管,其特征在于,所述上炉盖和所述下炉门远离所述容纳空间的外端面向外凸出形成球状凸起,所述上炉盖内...
【专利技术属性】
技术研发人员:邓金生,李学文,熊峰,易炜,
申请(专利权)人:常州捷佳创精密机械有限公司,
类型:发明
国别省市:
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