【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及闪砂,具体而言涉及一种具有图案特征闪砂微纹理结构及其制备方法。
技术介绍
1、目前制备闪砂产品主要通过化学腐蚀和直写光刻两种方式。通过化学腐蚀制得的闪砂产品通常较为粗糙,对闪砂颗粒的形貌和闪砂颗粒的结构都无法控制,仅通过闪砂颗粒不规则的凹凸表面来实现闪砂效果,因此通过化学腐蚀制得的闪砂产品质量不高,难以满足电子、电器产品的质感要求。
2、目前高质量的闪砂效果大多通过直写光刻制备微纹理结构实现,微纹理结构主要由许多大小随机分布的闪砂颗粒组成,每个闪砂颗粒具有不同角度变化的光栅结构,且角度变化随机,从而实现随机闪砂的视觉效果,类似闪砂一样。然而现有的高质量闪砂产品大多为整面闪砂或渐变式闪砂,无法满足用户定制具有图案特征的闪砂产品的需求。
技术实现思路
1、在
技术实现思路
部分中引入了一系列简化形式的概念,这将在具体实施方式部分中进一步详细说明。本专利技术的
技术实现思路
部分并不意味着要试图限定出所要求保护的技术方案的关键特征和必要技术特征,更不意味着试图确定所要求保护的技 ...
【技术保护点】
1.一种具有图案特征的闪砂微纹理结构,其特征在于,包括由具有光栅结构的闪砂颗粒组成的具有图案特征的目标图像,所述目标图像的明暗变化随着所述闪砂颗粒的尺寸和/或所述闪砂颗粒的分布密度而变化。
2.如权利要求1所述的闪砂微纹理结构,其特征在于,所述目标图像的明暗变化随着所述闪砂颗粒的尺寸和/或所述闪砂颗粒的分布密度而变化包括:
3.如权利要求1所述的闪砂微纹理结构,其特征在于,所述闪砂颗粒的形状为预设形状,所述预设形状包括圆形、三角形、方形、梯形、多边形或其组合。
4.如权利要求1所述的闪砂微纹理结构,其特征在于,所述闪砂颗粒的尺寸为预
...【技术特征摘要】
1.一种具有图案特征的闪砂微纹理结构,其特征在于,包括由具有光栅结构的闪砂颗粒组成的具有图案特征的目标图像,所述目标图像的明暗变化随着所述闪砂颗粒的尺寸和/或所述闪砂颗粒的分布密度而变化。
2.如权利要求1所述的闪砂微纹理结构,其特征在于,所述目标图像的明暗变化随着所述闪砂颗粒的尺寸和/或所述闪砂颗粒的分布密度而变化包括:
3.如权利要求1所述的闪砂微纹理结构,其特征在于,所述闪砂颗粒的形状为预设形状,所述预设形状包括圆形、三角形、方形、梯形、多边形或其组合。
4.如权利要求1所述的闪砂微纹理结构,其特征在于,所述闪砂颗粒的尺寸为预设尺寸,所述预设尺寸的范围包括0.01mm~2mm。
5.如权利要求1所述的闪砂微纹理结构,其特征在于,所述具有光栅结构的闪砂颗粒的...
【专利技术属性】
技术研发人员:段飞飞,赵丽红,袁孙,祝奇玉,赵菲,
申请(专利权)人:比亚迪股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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