陶瓷球形体及其制造方法技术

本发明专利技术的目的在于提供一种具有高亲水性、抑制了粉碎时的磨耗量的陶瓷球形体。本发明专利技术是一种以氧化锆为主成分的陶瓷球形体，所述陶瓷球形体中，单斜晶的比例为3.0容量％以下，正方晶的比例为80容量％以上且95容量％以下，表面粗糙度Sa为0.005μm以上且0.015μm以下，所述陶瓷球形体表面的源自OH基的3200cm<supgt;‑1</supgt;～3400cm<supgt;‑1</supgt;的波峰最大值(A)、与源自Zr‑O键的450cm<supgt;‑1</supgt;～500cm<supgt;‑1</supgt;、550cm<supgt;‑1</supgt;～600cm<supgt;‑1</supgt;及750cm<supgt;‑1</supgt;～850cm<supgt;‑1</supgt;的波峰最大值的总和(B)的比(A/B)为0.07以上且0.30以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及一种陶瓷球形体及其制造方法。

技术介绍

1、在电子材料用途中使用的粉末的微粉碎或油墨用途中的颜料的分散时，广泛使用：使用粉碎用介质进行粉碎的球磨机、振动磨机、砂磨机、珠磨机等粉碎机。作为可用于此种粉碎机用的球、珠等粉碎用介质(以下，有时简称为“介质”)，可使用在耐磨耗性、耐冲击性方面优异的氧化锆为主成分的陶瓷烧结体。

2、作为以氧化锆为主成分的陶瓷烧结体，公开了通过限定zro2与y2o3的组成比率，对al2o3量及sio2量进行控制，而提高耐久性及耐磨耗性的介质(例如专利文献1)。这些陶瓷球形体通过在烧结后进行研磨，在提高表面平滑性的同时，提高耐磨耗性。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1：日本专利特开2001-316178号公报

技术实现思路

1、专利技术所要解决的问题

2、在使用这些介质前后，有时会对介质进行水洗，但一般而言，以氧化锆为主成分的陶瓷球形体为疏水性，因此在水洗时，会在水中成为结块，或者含有空气等，存在清洗性本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种陶瓷球形体，以氧化锆为主成分，所述陶瓷球形体中，

2.根据权利要求1所述的陶瓷球形体，其中，在温度121℃、湿度100％的条件下进行72小时高压蒸煮试验(PCT)后的单斜晶的比例为9.0容量％以下。

3.根据权利要求1或2所述的陶瓷球形体，其中，通过渗透速度法而得的水的渗透速度为2.0×10-4g2/s以上且80×10-4g2/s以下。

4.根据权利要求1或2所述的陶瓷球形体，其中，平均粒径为10μm以上且150μm以下。

5.一种陶瓷球形体的制造方法，制造如权利要求1或2所述的陶瓷球形体，所述陶瓷球形体的制造方法依次包括研磨工序及...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种陶瓷球形体，以氧化锆为主成分，所述陶瓷球形体中，

2.根据权利要求1所述的陶瓷球形体，其中，在温度121℃、湿度100％的条件下进行72小时高压蒸煮试验(pct)后的单斜晶的比例为9.0容量％以下。

3.根据权利要求1或2所述的陶瓷球形体，其中，通过渗透速度法而得的水的渗透速度为2.0×10-4g2/s以上且80×10-4g2/s以下。

4.根据权利要求1或2所述的陶瓷球形体，其中，平均粒径为10μm以上且150μm以下。

5.一种陶瓷球形体的制造方法，制造如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：神井康宏，中岛穂嵩，泽越达哉，
申请(专利权)人：东丽株式会社，
类型：发明
国别省市：