本发明专利技术公开了一种半导体原料水洗搅拌装置，涉及半导体原料水洗技术领域，包括水洗罐，所述水洗罐的底部固定安装有托架座，还包括投料组件、搅拌组件以及下料组件；所述投料组件设置在水洗罐的顶部位置；所述搅拌组件包括转动安装于水洗罐顶部的腔轴杆，且腔轴杆与水洗罐同轴设置，所述水洗罐内周壁靠近顶部的一端固定安装有环形托板，且环形托板内转动安装有从动内齿环，所述从动内齿环底侧固定连接有多个等距离分布的连杆，且多个所述连杆的另一端共同固定安装有与腔轴杆同轴设置的管筒；本发明专利技术能够在竖向对半导体原料进行有效翻动，并在该过程中进行水洗处理，能够减少因为物料堆积而导致物料水洗效率低的问题。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体原料水洗，尤其是涉及一种半导体原料水洗搅拌装置。
技术介绍
1、砷化镓（gaas）是一种重要的半导体材料，属于iii-v族化合物半导体。它具有高频率、高电子迁移率、高输出功、低噪声以及良好的线性度等优越特性。这些特性使得砷化镓在光电子和微电子工业中有广泛的应用。在砷化镓的生产和使用过程中，可能会在其表面形成一层自然的氧化膜，同时也可能会沾染上一些灰尘、油污等杂质，这些杂质也会影响砷化镓的性能，故而需要对砷化镓物料进行水洗处理。
2、经检索，公开号为cn220003702u的中国专利文件，公开了一种半导体原料水洗搅拌设备，包括机箱，机箱包括搅拌缸体、储水箱体、循环过滤器和水泵，搅拌缸体的内部设有搅拌叶，搅拌叶通过驱动件可转动地连接在搅拌缸体的内部，搅拌叶位于循环入水口的同一高度进行旋转搅拌，将水洗搅拌后的过滤水经过水泵抽取至循环过滤器中，将水洗搅拌后的过滤水重新过滤成超纯水，经循环入水口进入搅拌缸体内再次对原料多晶硅和单晶硅进行水洗搅拌，形成超纯水的循环流动结构，有利于实现定量的超纯水资源进行循环水洗去除杂质，节省超纯水的用量本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种半导体原料水洗搅拌装置，包括水洗罐（1），所述水洗罐（1）的底部固定安装有托架座（2），其特征在于，还包括投料组件、搅拌组件以及下料组件；
2.根据权利要求1所述的一种半导体原料水洗搅拌装置，其特征在于：所述出液侧管（19）的一侧固定连通有多个等距离分布的支管（20），且每个支管（20）上开设有均匀分布的喷孔（21），所述出液侧管（19）的顶端固定安装有用于抵触斜板（26）的顶球（25）。
3.根据权利要求1所述的一种半导体原料水洗搅拌装置，其特征在于：每个所述落料挡板（22）靠近底部的位置处开设有均匀分布的落料孔（24）。
>4.根据权利要求1...
【技术特征摘要】
1.一种半导体原料水洗搅拌装置，包括水洗罐（1），所述水洗罐（1）的底部固定安装有托架座（2），其特征在于，还包括投料组件、搅拌组件以及下料组件；
2.根据权利要求1所述的一种半导体原料水洗搅拌装置，其特征在于：所述出液侧管（19）的一侧固定连通有多个等距离分布的支管（20），且每个支管（20）上开设有均匀分布的喷孔（21），所述出液侧管（19）的顶端固定安装有用于抵触斜板（26）的顶球（25）。
3.根据权利要求1所述的一种半导体原料水洗搅拌装置，其特征在于：每个所述落料挡板（22）靠近底部的位置处开设有均匀分布的落料孔（24）。
4.根据权利要求1所述的一种半导体原料水洗搅拌装置，其特征在于：所述水洗罐（1）的内周壁上固定安装有多个等距离分布的环形衬板（9），且多个环形衬板（9）的规格从上至下依次增加，每个所述环形衬板（9）的开口均呈上宽下窄结构。
5.根据权利要求1所述的一种半导体原料水洗搅拌装置，其特征在于：所述投料组件包括固定安装于水洗罐（1）顶部的加料斗（101），且水洗罐（1）靠近加料斗（101）的位置处转动安装有转筒（102），所述转筒（102）与加料斗（101）同轴设置。
6.根据权利要求5所述的一种半导体原料水洗搅拌装置，其特征在于：所述转筒（102）的内周壁上固定安装有多个等距离分布的防塞刮杆（28），所述水洗罐（1）的一侧固定安装有支撑柱，且支撑柱的一侧固定安装有驱动电机（5），所述驱动电机（5）的输出轴活动贯穿水洗罐（1）顶端，且驱动电机（5）的输出轴固定安装有驱动齿轮一（501），所述驱动齿轮一（501）与从动内齿...
【专利技术属性】
技术研发人员：孙彩霞，肖锦成，唐小峄，
申请(专利权)人：苏州尊恒半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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