一种高功率激光薄膜的加工工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种高功率激光薄膜的加工工艺。所述高功率激光薄膜的加工工艺，包括以下步骤：步骤(1)将六方氮化硼粉末羟基化处理，得到羟基化六方氮化硼颗粒；步骤(2)将聚乙烯亚胺进行表面修饰，得到复合填料；步骤(3)将复合填料、光引发剂和聚氨酯丙烯酸酯混合后，涂覆在基体材料表面，固化后，得到高功率激光薄膜。本发明专利技术将六方氮化硼进行羟基化处理后可以与含有胺基的聚乙烯亚胺进行化学结合，提高薄膜的附着力，六方氮化硼的存在可以增强薄膜的耐高温性能，光引发剂的添加可以缩短薄膜的固化时间，提高薄膜的生产效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于薄膜的加工，具体涉及一种高功率激光薄膜的加工工艺。

技术介绍

1、随着科技的发展，激光器的输出功率不断提高，同时，对激光器的损伤问题也逐渐引起了研究者们的关注，特别是在高功率激光系统中，光学薄膜的作用变得越来越重要，光学薄膜可以通过改变其反射和折射率来吸收激光，从而达到减小激光束损伤的目的，然而，高功率激光发射出的激光束具有热效应、光学损伤、泵浦限制与非线性效应等，会造成高温和损伤问题。

2、专利cn 110308501 b公开了一种强激光薄膜及其制备方法，该专利技术基于紫外固化的硅酮薄膜，通过控制紫外光引发剂的含量，在实现薄膜固化的同时对处于紫外波段的三倍频激光进行吸收，该薄膜可在基频与倍频处实现高透射，并且能降低三倍频处的透射率，该薄膜在基频与倍频波长处具有高的透射率，两者可以同时高于99％，具有高的三倍频吸收截止能力，但是，该薄膜的耐高温性能和折射率还有待提高。

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种高功率激光薄膜的加工工艺，用于解决现有技术中高功率激光薄膜耐高温性能不本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种高功率激光薄膜的加工工艺，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的高功率激光薄膜的加工工艺，其特征在于，所述步骤(1)中，六方氮化硼的纯度为98.5％，过氧化氢的浓度为10mol/L，过氧化氢与六方氮化硼的用量比为(48-52)mL∶(0.9-1.2)g，超声分散时间为30-40min，油浴锅温度为120-140℃，搅拌时间为40-50h，真空干燥温度为60-70℃，真空干燥时间为20-30h。

3.根据权利要求1所述的高功率激光薄膜的加工工艺，其特征在于，所述步骤(2)中，羟基化六方氮化硼与去离子水的用量比为1g∶(9-11)mL，聚乙烯亚胺...

【技术特征摘要】

1.一种高功率激光薄膜的加工工艺，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的高功率激光薄膜的加工工艺，其特征在于，所述步骤(1)中，六方氮化硼的纯度为98.5％，过氧化氢的浓度为10mol/l，过氧化氢与六方氮化硼的用量比为(48-52)ml∶(0.9-1.2)g，超声分散时间为30-40min，油浴锅温度为120-140℃，搅拌时间为40-50h，真空干燥温度为60-70℃，真空干燥时间为20-30h。

3.根据权利要求1所述的高功率激光薄膜的加工工艺，其特征在于，所述步骤(2)中，羟基化六方氮化硼与去离子水的用量比为1g∶(9-11)ml，聚乙烯亚胺的分子量为25000，聚乙烯亚胺、去离子水、无水乙醇和羟基化六方氮化硼水溶液的用量比为(1-1.2)g∶(48-52)ml∶(50-54)ml∶(45-55)ml，搅拌温度为25-30℃，搅拌时间为20-25h，真空干燥温度为65-...

【专利技术属性】
技术研发人员：肖志宏，
申请(专利权)人：肖志宏，
类型：发明
国别省市：