【技术实现步骤摘要】
本申请属于半导体材料,尤其涉及一种分子二聚体及其制备方法。
技术介绍
1、有机半导体分子以其灵活可调的电子特征、低成本和分子多样性等特点在电子光子学领域展现了独特优势,有望在纳米电子器件中发挥关键作用。
2、有机半导体的光电性质由单分子的内在性质和分子间的相互作用共同决定。不同数量的分子聚集体呈现不同的结构、性质和功能。其中,分子二聚体体系是分子量最少,最简单的分子聚集体。高效制备分子二聚体有助于设计和合成新型功能材料,这些材料可在纳米光电子器件、传感器技术和药物传递等领域发挥作用。
3、目前,分子二聚体主要在溶液中利用分子基团修饰目标分子的方法形成。其合成方法主要有两种:1.在浓溶液中使用大分子基团修饰目标分子以阻断分子聚集形成分子二聚体。2.在稀溶液中使用共价分子修饰目标分子使分子互相吸引形成分子二聚体。溶液中分子修饰合成分子二聚体方法,其操作复杂,不利于光电子器件集成,目标分子本征性质受修饰分子影响等问题。
4、因此,如何简易且高效地制备分子二聚体,是目前亟待解决的问题。
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【技术保护点】
1.一种分子二聚体的制备方法,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述步骤S1包括:在金属衬底上制备所述单原子层,以形成所述纳米网络,或者使用机械剥离方法制备将所述单原子层,并将所述单原子层转移至所述金属材料表面,以形成所述纳米网络。
3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,所述在金属衬底上制备所述单原子层,以形成所述纳米网络,包括:通过使用蒸发沉积法或离子束溅射法在所述金属衬底上制备所述单原子层。
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述金属衬底为Rh(111)金属,所述单原子层为h-BN单原子层。
...【技术特征摘要】
1.一种分子二聚体的制备方法,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述步骤s1包括:在金属衬底上制备所述单原子层,以形成所述纳米网络,或者使用机械剥离方法制备将所述单原子层,并将所述单原子层转移至所述金属材料表面,以形成所述纳米网络。
3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,所述在金属衬底上制备所述单原子层,以形成所述纳米网络,包括:通过使用蒸发沉积法或离子束溅射法在所述金属衬底上制备所述单原子层。
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述金属衬底为rh(111)金属,所述单原子层为h-bn单原子层。
5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,所述通过使用蒸发沉积法在在金属衬底上制备所述单原子层包括:将加热脱氢的环硼氮烷蒸发沉积在高温的rh(111)金属表面,以形成所述h-bn单原子层。
6.如权利要求5所...
【专利技术属性】
技术研发人员:张腾,郝小雨,王业亮,刘立巍,张全震,杨惠霞,王婷婷,李燕,
申请(专利权)人:北京理工大学,
类型:发明
国别省市:
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