一种制备自支撑石墨膜的方法及软X射线探测器技术

本发明专利技术公开了一种制备自支撑石墨膜的方法及软X射线探测器，所述的制备自支撑石墨膜的方法利用离心过滤技术制备尺寸、取向、湿度可控的复合薄膜；利用可控相分离技术，实现复合薄膜和基底的快速分离；利用溶剂的高效挥发和基底的高粗糙度，实现薄膜的自支撑；利用高温退火，修复材料晶格结构。此技术方案所制备的石墨膜三维尺寸可控、制备效率高、操作方案简单、试剂可回收、能耗低，可用于工业化、批量制备多功能纳米薄膜。将此种自支撑石墨纳米膜与半导体材料进行异质集成，利用较厚的石墨膜实现在软X射线下光电信号的高倍增，实现其在水窗口X射线领域的低剂量、高灵敏度探测。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于石墨烯膜制备领域，涉及一种制备自支撑石墨膜的方法及软x射线探测器。

技术介绍

1、二维材料，例如石墨烯材料，的快速发展，为传统功能薄膜的性能突破以及功能拓展带来了新的机遇。特别的是，石墨膜，其兼具了单层石墨烯的高导热、高导电、长载流子寿命等特征以及体相材料厚的粒子和物质的作用截面，因此可以广泛的应用于热声器件、电磁屏蔽、宽光谱探测、分子传感、生物电极等领域。但受限于制备方法，纳米厚度、均匀、尺寸可控、高结晶的石墨膜至今未能大面积制备。

2、常见的制备石墨膜的制备方法有：抽滤法、刮涂法、纺膜等，但这些方法都不能完成薄膜的高取向以及和基底的快速脱离，因此不能用于石墨膜的工业制备。具体而言，抽滤制备纳米膜效率极低、横向尺寸可控性差、薄膜取向不可控，因而只适合实验室制备材料。刮涂法可以大面积的制备纳米膜，但其基底脱离困难，耗时长、易损伤，且材料取向可控性差，同样不适合于工业制备。离心过滤可以解决纳米膜的大面积制备、均匀性以及材料取向问题，但是其所制备的纳米膜不能很好的与基底脱离，其加热蒸发干燥极其耗能且蒸发的溶剂难以回收，工业制备成本较高本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种制备自支撑石墨膜的方法，其特征在于，包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，离心筒的转速为500r/min以上，离心筒的内径为20-100cm。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述滤膜为亲水聚四氟乙烯滤膜。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述聚四氟乙烯滤膜的粗糙度高于2μm。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤(3)中高挥发性溶剂包括异丙醇、乙醇、丙酮、乙酸乙酯。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，氧化石墨烯的分散液通过可石墨化聚合物与氧化石墨烯溶于溶剂形...

【技术特征摘要】

1.一种制备自支撑石墨膜的方法，其特征在于，包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，离心筒的转速为500r/min以上，离心筒的内径为20-100cm。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述滤膜为亲水聚四氟乙烯滤膜。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述聚四氟乙烯滤膜的粗糙度高于2μm。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤(3)中高挥发性溶剂包括异丙醇、乙醇、丙酮、乙酸乙酯。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，氧化石墨烯的分散液通过可石墨化聚合物与氧化石墨烯溶于溶剂形成，分散液...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭蠡，杨旭三，曾贤贤，李子圆，
申请(专利权)人：长三角物理研究中心有限公司，
类型：发明
国别省市：