水质分析装置制造方法及图纸

在水质分析装置中，优选在防止由接液容器内部的污垢引起的散射光的影响的同时，易于维护。本发明专利技术提供一种水质分析装置，用于测定包含在测定对象水中的测定对象物质的浓度，该水质分析装置包括：具有测定对象水流通的内部空间并设有照射光窗、检测光窗及透射光窗的接液容器；设置在从照射光窗向接液容器的内部空间照射照射光的位置的照射光学系统；设置在检测从检测光窗射出的检测光的位置的检测光检测光学系统；以及遮光块，该遮光块在设置在检测从透射光窗射出的透射光的位置的透射光检测光学系统和接液容器的内部，以遮挡连接照射光窗和检测光窗的直线及连接检测光窗和透射光窗的直线的至少一部分的方式设置，遮光块能够从接液容器装卸。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及水质分析装置。

技术介绍

1、以往，在分析试样水的水质的水质分析装置中，为了防止杂散光的影响，已知有设置遮光板的结构(例如，参照专利文献1)。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本专利特开2010－60364号公报

技术实现思路

1、专利技术所要解决的技术问题

2、在水质分析装置中，优选在防止由接液容器内部的污垢引起的散射光的影响的同时，易于维护。

3、用于解决技术问题的技术手段

4、在本专利技术的第一方式中，提供一种测定包含在测定对象水中的测定对象物质的浓度的水质分析装置。水质分析装置可以包括接液容器。接液容器可以具有测定对象水流通的内部空间。在上述任一种水质分析装置中，可以在接液容器中设置照射光窗、检测光窗和透射光窗。上述任一种水质分析装置可以包括照射光学系统。在上述任一种水质分析装置中，照射光学系统可以设置在向接液容器的内部空间照射照射光的位置。上述任一个水质分析装置可以包括检测光检测光学系统。在上述任本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种水质分析装置，用于测定包含在测定对象水中的测定对象物质的浓度，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的水质分析装置，其特征在于，

3.如权利要求2所述的水质分析装置，其特征在于，

4.如权利要求3所述的水质分析装置，其特征在于，

5.如权利要求4所述的水质分析装置，其特征在于，

6.如权利要求4所述的水质分析装置，其特征在于，

7.如权利要求4所述的水质分析装置，其特征在于，

8.如权利要求4所述的水质分析装置，其特征在于，

9.如权利要求4所述的水质分析装置，其特征在于，

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【技术特征摘要】

1.一种水质分析装置，用于测定包含在测定对象水中的测定对象物质的浓度，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的水质分析装置，其特征在于，

3.如权利要求2所述的水质分析装置，其特征在于，

4.如权利要求3所述的水质分析装置，其特征在于，

5.如权利要求4所述的水质分析装置，其特征在于，

6.如权利要求4所述的水质分析装置，其特征在于，

7.如权利要求4所述的水质分析装置，其特征在于，

8.如权利要求4所述的水质分析装置，其特征在于，

9.如权利要求4所述的水质分...

【专利技术属性】
技术研发人员：篠田素美，田原雅哉，
申请(专利权)人：富士电机株式会社，
类型：发明
国别省市：