【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光刻设备，特别涉及一种工件台系统及其工作方法。
技术介绍
1、在半导体行业光刻设备中，工件台精密运动装置是极重要的关键分系统，其定位精度直接影响光刻设备的性能，其运行速度直接影响光刻设备的生产效率。随着超大规模集成电路器件集成度的不断提高，光刻分辨率的不断增强，对光刻机的特征线宽指标要求也在不断提升，对应的工件台的运行速度、加速度以及精度要求也不断提高。
2、光刻机工件台系统典型的结构形式为粗、微动相结合的结构，粗微动一体式，工件台运动精底较低。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种工件台系统，以提高现有光刻机工件台的运动精度。
2、为解决上述技术问题，本专利技术提供一种工件台系统，包括：微动模块、粗动模块、冲击力吸收模块、吊框、底部框架和主动减震模块；
3、所述吊框和所述底部框架之间通过所述主动减震模块隔离，所述吊框为所述微动模块提供垂向气浮支撑；
4、所述粗动模块通过所述冲击力吸收模块设置于所述底部框架，所述底部框...
【技术保护点】
1.一种工件台系统，其特征在于，包括：微动模块、粗动模块、冲击力吸收模块、吊框、底部框架和主动减震模块；
2.如权利要求1所述的工件台系统，其特征在于，所述工件台系统还包括跟随电机驱动模块，所述跟随电机驱动模块用于驱动所述粗动模块跟随所述微动模块运动；所述跟随电机驱动模块包括：电机线圈组件和电机定子组件，所述电机线圈组件设于所述粗动模块内，所述电机定子组件安装于所述微动模块。
3.如权利要求1或2所述的工件台系统，其特征在于，所述工件台系统还包括第一位移传感器组件，所述第一位移传感器组件设于所述粗动模块，所述第一零尔传感器组件用于对所述粗动模块...
【技术特征摘要】
1.一种工件台系统，其特征在于，包括：微动模块、粗动模块、冲击力吸收模块、吊框、底部框架和主动减震模块；
2.如权利要求1所述的工件台系统，其特征在于，所述工件台系统还包括跟随电机驱动模块，所述跟随电机驱动模块用于驱动所述粗动模块跟随所述微动模块运动；所述跟随电机驱动模块包括：电机线圈组件和电机定子组件，所述电机线圈组件设于所述粗动模块内，所述电机定子组件安装于所述微动模块。
3.如权利要求1或2所述的工件台系统，其特征在于，所述工件台系统还包括第一位移传感器组件，所述第一位移传感器组件设于所述粗动模块，所述第一零尔传感器组件用于对所述粗动模块跟随所述微动模块运动的运动数据进行测量，并将测量结果反馈给用以控制所述微动模块运动的干涉仪。
4.如权利要求1或2所述的工件台系统，其特征在于，所述微动模块和所述粗动模块沿水平向依次设置。
5.如权利要求1所述的工件台系统，其特征在于，所述粗动模块跟随所述微动模块运动的运动方向包括：x向、y向及rz向，其中，x向与y向为互相垂直的两个水平向，z向为垂向。
6.如权利要求5所述的工件台系统，其特征在于，所述冲击力吸收模块包括平衡质量机构，所述平衡质量机构包括平衡质量框架，所述平衡质量框架为所述粗动模块提供垂向气浮支撑，且所述平衡质量框架的运动行程s1、所述平衡质量框架的质量m1、所述粗动模块的运动行程s2及所述粗动模块的质量m2...
【专利技术属性】
技术研发人员：蔡晨，王鑫鑫，吴文娟，冒鹏飞，杨博光，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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