一种多晶硅行业氢气压缩机密封填料制造技术

技术编号:41778640 阅读:22 留言:0更新日期:2024-06-21 21:54
本技术公开了一种多晶硅行业氢气压缩机密封填料,涉及多晶硅行业补充氢密封填料技术领域,包括从左往右依次设置的一组减压环、八组主密封环、一组高压漏气室、二组主密封环、一组低压密封环、一组充氮吹扫室、二组低压密封环、一组低压漏气室和一组低压密封环;一组减压环、八组主密封环、一组高压漏气室、二组主密封环、一组低压密封环、一组充氮吹扫室、二组低压密封环分别装配在十六个填料盒内,一组低压漏气室和一组低压密封环均装配在填料盖内,填料盖的末端装配有端盖。本技术在不改变原填料函腔室长度的情况下,增加了主密封环的组数,增加高压端的密封性;同时对高压漏气室、充氮吹扫室和低压漏气室进行了改造。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及多晶硅行业补充氢密封填料,更具体地说涉及一种多晶硅行业氢气压缩机密封填料


技术介绍

1、目前多晶硅行业中,大多数企业都采用西门子法生产多晶硅,这种方法的原理就是在1100℃左右的高纯硅芯上用高纯氢还原高纯三氯氢硅,生成多晶硅沉积在硅芯上。多晶硅生产中需要用氢气压缩机压缩氢气,提供反应压力和输送氢气。

2、填料是氢气压缩机工作过程中的主要密封元件,在氢气压缩机的压缩工作过程中,可减少气缸中的高压气体通过活塞杆向下泄漏。填料部件性能的优劣直接影响氢气压缩机的最终排气量和排气压力,是氢气压缩机的一个重要部件之一。

3、如图6所示,其为现有技术中的一种常规填料,其从左往右依次包括:减压环1组、主密封环5组、高压漏气室1组、高压漏气密封环2组、充氮吹扫室1组、双向密封环3组、低压漏气室1组、低压密封环1组,总共15组。

4、此种填料设计,针对普通氢气工况具备良好的密封性能,能保障设备长周期的运行。但在多晶硅行业,往复式补充氢压缩机运行介质氢气+氯硅烷+少量硅粉,此种工况对往复式压缩机来说相对较恶劣,使用常规氢气环境的密本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种多晶硅行业氢气压缩机密封填料,其特征在于,包括从左往右依次设置的一组减压环(1)、八组主密封环(2)、一组高压漏气室(3)、二组主密封环(2)、一组低压密封环(4)、一组充氮吹扫室(5)、二组低压密封环(4)、一组低压漏气室(6)和一组低压密封环(4);

2.如权利要求1所述的氢气压缩机密封填料,其特征在于,所述高压漏气室(3)对应的填料盒(7)上设置有高压漏气引出通道(10),所述高压漏气引出通道(10)连通至所述高压漏气室(3)内。

3.如权利要求1所述的氢气压缩机密封填料,其特征在于,所述充氮吹扫室(5)对应的填料盒(7)上设置有气体引入通道(11)...

【技术特征摘要】

1.一种多晶硅行业氢气压缩机密封填料,其特征在于,包括从左往右依次设置的一组减压环(1)、八组主密封环(2)、一组高压漏气室(3)、二组主密封环(2)、一组低压密封环(4)、一组充氮吹扫室(5)、二组低压密封环(4)、一组低压漏气室(6)和一组低压密封环(4);

2.如权利要求1所述的氢气压缩机密封填料,其特征在于,所述高压漏气室(3)对应的填料盒(7)上设置有高压漏气引出通道(10),所述高压漏气引出通道(10)连通至所述高压漏气室(3)内。

3.如权利要求1所述的氢气压缩机密封填料,其特征在于,所述充氮吹扫室(5)对应的填料盒(7)上设置有气体引入通道(11),所述气体引入通道(11)连通至所述充氮吹扫室(5)内。

4.如权利要求1所述的氢气压缩机密封填料,其特征在于,所述填料盖(...

【专利技术属性】
技术研发人员:彭晓冬晏涛李春洋杨加平张俊袁志林王仕伍周万江蓝波
申请(专利权)人:四川永祥新能源有限公司
类型:新型
国别省市:

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