芯片及其制备方法、射频功率放大器和终端技术

技术编号:41766540 阅读:13 留言:0更新日期:2024-06-21 21:44
本申请实施例提供了一种芯片及其制备方法、射频功率放大器和终端,涉及半导体技术领域,可以确保外延层与源极导电层充分接触。该芯片包括第一晶体管和第二晶体管,该方法包括:在衬底(10)上形成依次层叠设置的外延层(11)和源极导电层(21);外延层包括第一通孔,以形成第一晶体管的第一外延层(101)和第二晶体管的第二外延层(102)。源极导电层包括第一晶体管的第一源极(211)和第二晶体管的第二源极(212)。第一源极(211)的边沿与第一外延层(101)贴近第一通孔侧的边沿齐平,第二源极(212)的边沿与第二外延层(102)贴近第一通孔侧的边沿。在第一通孔中形成第一导电层(13);第一导电层(13)与第一源极(211)和第二源极(212)接触;形成第二通孔;在第二通孔中形成第二导电层(14),第二导电层(14)与第一导电层(13)接触、并接地。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】


技术介绍


技术实现思路

【技术保护点】

PCT国内申请,权利要求书已公开。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

pct国内申请,权...

【专利技术属性】
技术研发人员:李水明李海军张志利刘涛饶进
申请(专利权)人:华为技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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