高气压离子聚焦的电离源装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种高气压离子聚焦的电离源装置，包括进样口、三通接头、限流阀、压力表、外壳体、内壳体、高压电极、绝缘介质、栅网电极、射频电源、电极、底座、O圈、绝缘环、内衬管等组成。高压气体样品经采样口分别进入外壳体和电离区，进入电离区的样品中在射频高压下的作用下形成离子；离子在电压、气流的驱动下透过栅网，在静稳高压电场、气流和栅网形成的离子门的作用下聚焦、富集，供后端检测器分析检测。该电离源可在高气压电离、聚焦、富集，提高分析检测的离子数密度，从而提高检测的灵敏度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于分析化学仪器的电离源，具体说是一种高气压下高效电离、离子聚集的电离源技术。高压气体样品经采样口分别进入外壳体和电离区，进入电离区的样品中在射频高压下的作用下形成离子；离子在电压、气流的驱动下透过栅网，在静稳高压电场、气流和栅网形成的离子门的作用下聚焦、富集，供后端检测器分析检测。该电离源可在高气压电离、聚焦、富集，提高分析检测的离子数密度，从而提高检测的灵敏度。

技术介绍

1、电离源是所有离子型分析仪器最关键的器件之一，其电离效率直接关系着仪器的灵敏度。用于气体分析的ims常用电离源有：放射性电离源、光电离源和放电电离源等。目前，ims常用的放射性电离源有63ni源、3h源和241am源等。放射电离源，具有结构简单、工作稳定、持久耐用等特点，但由于放射源的辐射损伤问题，其使用受到了政府的严格管控，辐射剂量需控制在一定范围内，因而产生的离子数密度有限，限制了ims检测灵敏度的继续提高。

2、近年来，放电电离源因产生的电子密度大而备受关注。例如，电晕放电(coronadischarge，cd)电离源比镍放射源产生的总离子流大一个数量级本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种高气压离子聚焦电离源装置，其特征在于：所述高气压离子聚焦电离源装置包括外壳体(6)和内壳体(10)，所述内壳体(10)在外壳体(6)内部，二者密封形成高压密封腔体(23)；所述外壳体(6)上设有接口Ⅰ(5)；所述内壳体(10)上设有接口Ⅱ(9)且贯穿外壳体(6)；

2.根据权利要求1所述的高气压离子聚焦电离源装置，其特征在于：所述接口Ⅰ(5)依次与限流阀(3)、三通接头(2)、进样口(1)连接；所述接口Ⅱ(9)依次与依次与质量流量计(7)、三通接头(2)、进样口(1)。

3.根据权利要求2所述的高气压离子聚焦电离源装置，其特征在于：所述接口Ⅰ(5)和限流阀...

【技术特征摘要】

1.一种高气压离子聚焦电离源装置，其特征在于：所述高气压离子聚焦电离源装置包括外壳体(6)和内壳体(10)，所述内壳体(10)在外壳体(6)内部，二者密封形成高压密封腔体(23)；所述外壳体(6)上设有接口ⅰ(5)；所述内壳体(10)上设有接口ⅱ(9)且贯穿外壳体(6)；

2.根据权利要求1所述的高气压离子聚焦电离源装置，其特征在于：所述接口ⅰ(5)依次与限流阀(3)、三通接头(2)、进样口(1)连接；所述接口ⅱ(9)依次与依次与质量流量计(7)、三通接头(2)、进样口(1)。

3.根据权利要求2所述的高气压离子聚焦电离源装置，其特征在于：所述接口ⅰ(5)和限流阀(3)之间设有压力表ⅰ(4)；所述接口ⅱ(9)和质量流量计(7)之间设有压力表ⅱ(8)。

4.根据权利要求1所述的高气压离子聚焦电离源装置，其特征在于：所述气体传输管路为外径为4-8mm，内径为2-5mm的硅烷处理的不锈钢钢管；接口ⅰ(5)、接口ⅱ(9)和外壳体(6)均为不锈钢材质，壁厚为3-8mm。

5.根据权利要求1所述的高气压离子聚焦电离源装置，其特征在于：所述内壳体(10)为聚醚醚酮材料，壁厚为5-10mm；底座(16)为聚四氟乙烯材料；高压放电电极(11)为圆环形不锈钢片，电极厚度为1-5mm；绝缘介质(12)为聚四氟乙烯材料，外径比高压放电电极(11)大1-...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄卫，李海洋，王卫国，仓怀文，白雪莹，李嘉乐，宋思雨，
申请(专利权)人：中国科学院大连化学物理研究所，
类型：发明
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