用于ALD设备的流量计的校准方法、设备及可读存储介质技术

本发明专利技术涉及材料测试样品制备技术领域，具体为一种用于ALD设备的流量计的校准方法，所述方法包括以下步骤：包括以下步骤：S1、校准标准值测定：在真空条件下，测定流量计的设定值增加数值1的泵前压力的压力差，记为校准标准值S；S2、校准确认；S3、流量计校准：在真空条件下，将流量计的设定值设为5，测定流量计达到设定值后泵前压力的压力差，若压力差不在（5S‑0.5，5S+0.5）的区间内，将流量计的设定值进行补正；稳定后再次测定泵前压力的压力差，若压力差仍不在（5S‑0.5，5S+0.5）的区间内，将流量计的设定值再次补正，重复以上流程直至泵前压力的压力差位于（5S‑0.5，5S+0.5）的区间内；S4、操作人员将最终的补正值录入。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及ald设备，特别涉及一种用于ald设备的流量计的校准方法。

技术介绍

1、ald设备即原子层沉积镀膜设备，其可以在基材的表面镀覆一层单层原子厚度的薄膜，镀膜的精度十分的高，是十分先进的纳米级表面处理技术，目前ald设备已经广泛的应用在光伏制造领域。因为ald设备的镀膜的精度十分的高，相应的，对工艺流程中的各种工艺参数，特别是气体流量的控制要求很高。流量计在长时间的使用后，可能会发生流量偏差的情况，即实际通过的气体流量与工艺参数要求的气体流量存在差异，这样会影响镀膜的质量，产生工艺不良。为此，本专利技术提供了一种在ald设备上使用的流量计的校准方法。

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种用于ald设备的流量计的校准方法，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。

2、为实现上述目的，第一方面，本专利技术提供如下技术方案：

3、一种用于ald设备的流量计的校准方法，所述方法包括以下步骤：

4、包括以下步骤：

5、s1、校准标准值测定：

6、本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.用于ALD设备的流量计的校准方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的用于ALD设备的流量计的校准方法，其特征在于，步骤S2包括：

3.根据权利要求1所述的用于ALD设备的流量计的校准方法，其特征在于，步骤S3包括：

4.根据权利要求3所述的用于ALD设备的流量计的校准方法，其特征在于，n取0.1。

5.用于ALD设备的流量计的校准设备，其特征在于，所述校准设备包括存储器、处理器以及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的校准程序，所述校准程序被所述处理器执行时实现如权利要求1-4中任一项所述的用于ALD设备的流量计的...

【技术特征摘要】

1.用于ald设备的流量计的校准方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的用于ald设备的流量计的校准方法，其特征在于，步骤s2包括：

3.根据权利要求1所述的用于ald设备的流量计的校准方法，其特征在于，步骤s3包括：

4.根据权利要求3所述的用于ald设备的流量计的校准方法，其特征在于，n取0.1。

5.用于ald设备的流量计的校...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈龙，孙胜华，
申请(专利权)人：艾华无锡半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：