TF液晶面板刻蚀腔铝板清洁再生的方法技术

本申请涉及液晶面板处理技术领域，尤其是涉及一种TF液晶面板刻蚀腔铝板清洁再生的方法,包括以下步骤：将磁控溅射法形成铜硅粘连的铝板经机械削剥到铝板原厚度；在氨水中滴加氯化铵和酒石酸铵形成清洗液，将机械削剥后的铝板放置在清洗液内，浸泡反应；在去离子水中添加氟化铵、过硫酸铵和乙酸，并调节pH至3‑4形成混合液，将铝板浸泡在混合液中反应；反应结束，对铝板进行清洗、干燥、冷却，并用铝粉喷压到铝板表面，恢复到原来厚度。本申请采用理化混合法除去铝板上的铜硅，以高效率、低成本的运行方式，既保证了铝板的厚度不变，同时化学试剂消耗和废液处理费用综合成本低，降低了生产成本。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及液晶面板处理，尤其是涉及一种tf液晶面板刻蚀腔铝板清洁再生的方法。

技术介绍

1、纯铜掺4%的硅合金，在tf液晶面板可作为镀膜材料，起着稳定电性能、增加膜材硬度和耐蚀强度的作用。采用pvd溅射工艺在液晶面板上钳嵌硅铜材料作为导电膜，腔体系统的铝板及衬底以金属铝为基材的部件同样受到轰击沾附，并在铝板及衬底上淀积越聚越多，致使铝板或衬底承重超荷，影响其正常使用。

2、现半导体或液晶面板剥削清洁铜硅膜材的分离工艺，常用是用物理法，将替换下来的铝材衬底和铝板进行人工或机械性铲削使之从铝板上脱落下来，然后再进行深度喷砂打磨，直至铜硅膜材从铝板上彻底剥离，然后再进行表面粗化，多次清洗乙醇浸泡起吊烘干，通过超音速，使铝粉高速碰撞压制到铝板上沉积增厚。从而达到铜硅膜材剥削清洁，以及补增铝板至原厚度的作用。然而采用单纯的物理分离方法，会使铝板的剥离厚度大，多次涂覆使得铝板产生多端面层析，涂层与基材晶界变宽，强度下降，承载等离子体膜材荷重变小，更换周期变短，从而影响产量，增加成本。

3、因此，开发一种新的液晶面板剥削清洁铜硅膜材的分离方法，对本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种TF液晶面板刻蚀腔铝板清洁再生的方法，其特征在于：包括以下步骤：

2. 根据权利要求1所述的TF液晶面板刻蚀腔铝板清洁再生的方法，其特征在于：所述S2中 ，所述氨水的浓度为10-12%，且添加氨水的摩尔数为3G/64；所述氨水、氯化铵和酒石酸铵的摩尔比为3:0.5-1.5:0.1-1。

3.根据权利要求1所述的TF液晶面板刻蚀腔铝板清洁再生的方法，其特征在于：所述S2中，反应时采用超声处理，且超声波强度为16000-20000HZ，超声处理1.5-2.5h。

4. 根据权利要求1所述的TF液晶面板刻蚀腔铝板清洁再生的方法，其特征在于：所述S2中...

【技术特征摘要】

1.一种tf液晶面板刻蚀腔铝板清洁再生的方法，其特征在于：包括以下步骤：

2. 根据权利要求1所述的tf液晶面板刻蚀腔铝板清洁再生的方法，其特征在于：所述s2中 ，所述氨水的浓度为10-12%，且添加氨水的摩尔数为3g/64；所述氨水、氯化铵和酒石酸铵的摩尔比为3:0.5-1.5:0.1-1。

3.根据权利要求1所述的tf液晶面板刻蚀腔铝板清洁再生的方法，其特征在于：所述s2中，反应时采用超声处理，且超声波强度为16000-20000hz，超声处理1.5-2.5h。

4. 根据权利要求1所述的tf液晶面板刻蚀腔铝板清洁再生的方法，其特征在于：所述s2中，将排出的清洗液调节ph至6.0-6.5，进行雾化干燥，得到氯化铜铵和酒石酸铵并溶解，加入碳酸铵后过滤、烘干即可。

5. 根据权利要求1所述的tf液晶面板...

【专利技术属性】
技术研发人员：阚云峰，辛长林，金巨万，王贝，杨斌，
申请(专利权)人：苏州高芯众科半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：