一种电阻设备温度及温梯精确调控系统技术方案

本发明专利技术属于温度控制技术领域，具体的说是一种电阻设备温度及温梯精确调控系统，包括电控柜、电控柜内部安装有供电模块、感应加热模块、电阻加热模块、测温模块、控制端、温度控制单元；所述电控柜和供电模块之间通过电性连接；通过感应线圈、电阻加热模块，分别同时通电加热，同时通过上测温窗、下测温窗进行全方位温度监控，同时设备通过长晶坩埚、粉料坩埚、保温材料建立凸型温梯场环境，该过程中，可降低现有只通过单一维度加热的方式，导致加热速度较慢，加热不均匀的情况发生，此时通过感应线圈与电阻加热模块的多维度进行加热，进而可增加对长晶坩埚及粉料坩埚的加热速度，同时降低温度的损耗，提高对粉料的加热均匀作用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于温度控制，具体的说是一种电阻设备温度及温梯精确调控系统。

技术介绍

1、电阻设备温度调控主要广泛应用于pvt工艺、半导体制造、陶瓷材料加工、金属热处理领域中，温度及温梯调控可以实现对电阻设备内部温度的精确控制，提高材料的处理质量和稳定性。

2、电阻设备温度及温梯调控系统主要是通过温度传感器、温度控制器、加热元件和冷却元件组成，在使用过程中，通过温度传感器可实时监测电阻设备内部的温度，并将数据传输给温度控制器，之后计算出需要加热或冷却的功率，并控制加热元件和冷却元件的工作状态，从而即可实现对电阻设备内部温度的控制。

3、但是现有的加热方法通常只依赖于一个热源的电阻或感应加热，导致这种加热方式速度较慢，加热不均匀的问题，同时会造成粉料消耗不均匀的情况发生，不利于制备高质量的单晶加工，为此，本专利技术提供一种电阻设备温度及温梯精确调控系统。

技术实现思路

1、为了弥补现有技术的不足，解决
技术介绍
中所提出的至少一个技术问题。

2、本专利技术解决其技术问题所采用的技术方本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种电阻设备温度及温梯精确调控系统，其特征在于：包括电控柜、电控柜内部安装有供电模块、感应加热模块、电阻加热模块、测温模块、控制端、温度控制单元；所述电控柜和供电模块之间通过电性连接；所述供电模块和感应加热模块之间通过电性连接；所述感应加热模块和电阻加热模块之间通过信号连接；所述电阻加热模块和测温模块之间通过信号连接；所述测温模块和控制端之间通过信号连接；所述控制端和温度控制单元之间通过信号连接；

2.根据权利要求1所述的一种电阻设备温度及温梯精确调控系统，其特征在于：所述电控柜内部安装有温度控制单元：其可以实时监测两个独立温梯温度变化并反馈给控制端，通过控制端调节电阻加...

【技术特征摘要】

1.一种电阻设备温度及温梯精确调控系统，其特征在于：包括电控柜、电控柜内部安装有供电模块、感应加热模块、电阻加热模块、测温模块、控制端、温度控制单元；所述电控柜和供电模块之间通过电性连接；所述供电模块和感应加热模块之间通过电性连接；所述感应加热模块和电阻加热模块之间通过信号连接；所述电阻加热模块和测温模块之间通过信号连接；所述测温模块和控制端之间通过信号连接；所述控制端和温度控制单元之间通过信号连接；

2.根据权利要求1所述的一种电阻设备温度及温梯精确调控系统，其特征在于：所述电控柜内部安装有温度控制单元：其可以实时监测两个独立温梯温度变化并反馈给控制端，通过控制端调节电阻加热模块的功率，实现对两个独立温梯的精准控制，控制温度波动≤0.5℃。

3.根据权利要求2所述的一种电阻设备温度及温梯精确调控系统，其特征在于：该温度及温梯精准调控方法适用于权利要求1-2中所述的一种电阻设备温度及温梯精确调控系统，其调控方法包括以下步骤：

4.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵丽丽，李铁，张胜涛，
申请(专利权)人：哈尔滨科友半导体产业装备与技术研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：