用于FINFET感测放大器的装置及方法制造方法及图纸

技术编号:41738421 阅读:16 留言:0更新日期:2024-06-19 12:57
本公开涉及用于finFET感测放大器的装置及方法。描述用于制造存储器装置的感测放大器SA中的具有各种鳍片宽度的各种装置的系统及方法。所述SA中的所述各种装置对各种参数敏感,所述参数对对应finFET的所述鳍片宽度敏感。制造所述SA中的所述各种装置中的各种鳍片宽度可改进所述存储器装置的性能。例如,将较厚鳍片(较大鳍片宽度)用于所述SA中的NMOS感测放大器及PMOS感测放大器会减少阈值电压变化,而将较薄鳍片(较小鳍片宽度)用于所述SA中的控制装置会保持所述控制装置的高性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术大体上涉及存储器装置领域。更具体来说,本公开的实施例涉及非平面晶体管及用于制造存储器装置中的非平面晶体管的技术。


技术介绍

1、本章节希望向读者介绍可与在下文描述及/或主张的本专利技术的各种方面有关的技术的各种方面。据信,此论述有助于向读者提供背景信息以促进更好地理解本专利技术的各种方面。因此,应了解,这些陈述应在此意义上阅读而非作为现有技术的认可。

2、存储器装置广泛用于存储与各种电子装置相关的信息,所述电子装置例如计算机、无线通信装置、照相机、数字显示器及类似者。存储器装置频繁作为内部存储器、集成电路及/或外部可移除装置提供于计算机或其它电子装置中。存在许多不同类型的存储器,包含易失性及非易失性存储器。易失性存储器,包含随机存取存储器(ram)、静态随机存取存储器(sram)、动态随机存取存储器(dram)及同步动态随机存取存储器(sdram)等需要经施加电力的源来维持其数据。相比之下,非易失性存储器即使在没有从外部供电的情况下也可留存其所存储数据。非易失性存储器可用于多种技术,包含快闪存储器(例如,nand及nor)、相变存储器本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种装置,其包括:

2.根据权利要求1所述的装置,其中所述第一组件包括PMOS感测放大器PSA,且其中所述PSA包括所述第一finFET。

3.根据权利要求2所述的装置,其中所述第一组件包括NMOS感测放大器NSA,其中所述NSA包括第三finFET,且其中所述第三finFET包括具有所述第一宽度的第三鳍片。

4.根据权利要求2所述的装置,其中所述第一组件包括NMOS感测放大器NSA,其中所述NSA包括第三finFET,且其中所述第三finFET包括具有第三宽度的第三鳍片,且其中所述第三宽度大于所述第二宽度。

5.根据权利要求1所述的装...

【技术特征摘要】

1.一种装置,其包括:

2.根据权利要求1所述的装置,其中所述第一组件包括pmos感测放大器psa,且其中所述psa包括所述第一finfet。

3.根据权利要求2所述的装置,其中所述第一组件包括nmos感测放大器nsa,其中所述nsa包括第三finfet,且其中所述第三finfet包括具有所述第一宽度的第三鳍片。

4.根据权利要求2所述的装置,其中所述第一组件包括nmos感测放大器nsa,其中所述nsa包括第三finfet,且其中所述第三finfet包括具有第三宽度的第三鳍片,且其中所述第三宽度大于所述第二宽度。

5.根据权利要求1所述的装置,其中所述第一组件包括nmos感测放大器nsa,且其中所述nsa包括所述第一finfet。

6.根据权利要求1所述的装置,其包括第三finfet,其中所述第三finfet包括具有第三宽度的第三鳍片。

7.根据权利要求1所述的装置,其中从数字线接收所述两个信号中的一者,且所述两个信号中的另一者是参考电压。

8.根据权利要求1所述的装置,其中从存储器装置中的相应数字线接收所述两个信号。

9.一种电路,其包括:

10.根据权利要求9所述的电路,...

【专利技术属性】
技术研发人员:李文君C·G·维杜威特
申请(专利权)人:美光科技公司
类型:发明
国别省市:

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