一种掩膜版相位差测量装置及测量方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及相位差测量，具体涉及一种掩膜版相位差测量装置及测量方法，包括按顺序依次设置的UV光源、聚光透镜、带通滤波器、掩膜版、DUV物镜、第一中继透镜、第一分光镜，第一分光镜生成两束相干光，其中一束相干光依次经过第一反射镜、第一楔镜后到达第二分光镜形成光路A，另一束相干光依次经过第二楔镜、第二反射镜、百叶窗后到达第二分光镜形成光路B，两束相干光在第二分光镜处汇合并形成干涉，第二分光镜生成的干涉光依次经过第二中继透镜、目镜后到达UV相机；本发明专利技术提供的技术方案能够有效克服现有技术所存在的测量装置结构复杂、测量方法较为繁杂和测量精度较低的缺陷。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及相位差测量，具体涉及一种掩膜版相位差测量装置及测量方法。

技术介绍

1、利用光的干涉原理改变光通过掩膜版在半导体器件上产生所需的图像，沿特征边缘提供相消干涉，在光学系统中能够提供更高的聚焦深度和曝光维度。

2、利用相位技术曝光机能够打印比以前更小的结构，并且不需要更换新的光学系统，同时利用带有钼化硅层的掩膜版，面板厂可以从现有的基础设施中获得更高的生产力，使得早期技术开发达到最先进的水平，因此相位测量技术非常重要。

3、然而，现有的掩膜版相位差测量装置结构复杂，并且测量方法较为繁杂，同时测量精度较低。

技术实现思路

1、(一)解决的技术问题

2、针对现有技术所存在的上述缺点，本专利技术提供了一种掩膜版相位差测量装置及测量方法，能够有效克服现有技术所存在的测量装置结构复杂、测量方法较为繁杂和测量精度较低的缺陷。

3、(二)技术方案

4、为实现以上目的，本专利技术通过以下技术方案予以实现：

5、一种掩膜版相位差测量装置，包括按顺本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种掩膜版相位差测量装置，其特征在于：包括按顺序依次设置的UV光源(2)、聚光透镜(3)、带通滤波器(4)、掩膜版(1)、DUV物镜(5)、第一中继透镜(6)、第一分光镜(8)；

2.根据权利要求1所述的掩膜版相位差测量装置，其特征在于：所述第一楔镜(13)的作用是通过上下移动改变光路A经过第一楔镜(13)的光程差，并通过不断移动改变第二分光镜(9)处的干涉条纹间距，以分别拟合出Glass+Glass的相位φ1、Glass+MoSi的相位φ2的振动曲线；

3.根据权利要求2所述的掩膜版相位差测量装置，其特征在于：所述第二楔镜(12)的作用是通过左右移动调控剪切...

【技术特征摘要】

1.一种掩膜版相位差测量装置，其特征在于：包括按顺序依次设置的uv光源(2)、聚光透镜(3)、带通滤波器(4)、掩膜版(1)、duv物镜(5)、第一中继透镜(6)、第一分光镜(8)；

2.根据权利要求1所述的掩膜版相位差测量装置，其特征在于：所述第一楔镜(13)的作用是通过上下移动改变光路a经过第一楔镜(13)的光程差，并通过不断移动改变第二分光镜(9)处的干涉条纹间距，以分别拟合出glass+glass的相位φ1、glass+mosi的相位φ2的振动曲线；

3.根据权利要求2所述的掩膜版相位差测量装置，其特征在于：所述第二楔镜(12)的作用是通过左右移动调控剪切量，以使得...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪春杨，熊启龙，
申请(专利权)人：佛山清溢光电有限公司，
类型：发明
国别省市：