【技术实现步骤摘要】
本申请涉及母粒材料，尤其是涉及一种聚氨酯薄膜高浓度高分散屏蔽紫外线遮光母粒及其制备方法。
技术介绍
1、母粒是指在塑料加工成型过程中，为了操作方便，将所需要的各种助剂、填料与载体树脂先进行混合混炼，再经过挤出机等设备计量、混合、熔融、挤出、切粒等工序制得的颗粒料。
2、遮光母粒是一种用于制造遮光材料的添加剂，可以用于调整聚氨酯薄膜的透光性和透明度，从而实现遮光或防止光透过的效果。相关技术将树脂基体与具有遮光性能的粉体混合进行造粒，得到的产品均匀性和相容性差，会影响到聚氨酯薄膜的性能，故有待改善。
技术实现思路
1、为了提升遮光母粒的分散性，本申请提供一种聚氨酯薄膜高浓度高分散屏蔽紫外线遮光母粒及其制备方法。
2、本申请提供的一种聚氨酯薄膜高浓度高分散屏蔽紫外线遮光母粒及其制备方法采用如下的技术方案：
3、第一方面，本申请提供的一种聚氨酯薄膜高浓度高分散屏蔽紫外线遮光母粒，采用如下的技术方案：
4、一种聚氨酯薄膜高浓度高分散屏蔽紫外线遮光母粒，...
【技术保护点】
1.一种聚氨酯薄膜高浓度高分散屏蔽紫外线遮光母粒，其特征在于：包括以下质量份数的组分：
2.根据权利要求1所述的一种聚氨酯薄膜高浓度高分散屏蔽紫外线遮光母粒，其特征在于：所述高分散改性纳米二氧化钛的制备原料包括表面改性纳米二氧化钛、苯胺和十二烷基硫酸钠。
3.根据权利要求2所述的一种聚氨酯薄膜高浓度高分散屏蔽紫外线遮光母粒，其特征在于：所述表面改性纳米二氧化钛的制备原料包括纳米二氧化钛本体、硝酸铈六水合物和十六水硫酸铝。
4.根据权利要求3所述的一种聚氨酯薄膜高浓度高分散屏蔽紫外线遮光母粒，其特征在于：所述表面改性纳米二氧化钛采用如
...【技术特征摘要】
1.一种聚氨酯薄膜高浓度高分散屏蔽紫外线遮光母粒，其特征在于：包括以下质量份数的组分：
2.根据权利要求1所述的一种聚氨酯薄膜高浓度高分散屏蔽紫外线遮光母粒，其特征在于：所述高分散改性纳米二氧化钛的制备原料包括表面改性纳米二氧化钛、苯胺和十二烷基硫酸钠。
3.根据权利要求2所述的一种聚氨酯薄膜高浓度高分散屏蔽紫外线遮光母粒，其特征在于：所述表面改性纳米二氧化钛的制备原料包括纳米二氧化钛本体、硝酸铈六水合物和十六水硫酸铝。
4.根据权利要求3所述的一种聚氨酯薄膜高浓度高分散屏蔽紫外线遮光母粒，其特征在于：所述表面改性纳米二氧化钛采用如下步骤制备：
5.根据权利要求4所述的一种聚氨酯薄膜高浓度高分散屏蔽紫外线遮光母粒，其特征在于：所述表面改性纳米二氧化钛、苯胺和十二烷基硫酸钠的质量比为1：0.3：（0.05...
【专利技术属性】
技术研发人员：李永兵，张玉文，胡华丽，
申请(专利权)人：南通君越新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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