The invention discloses a method for exposing a plasma display panel, which comprises the following steps: first exposure to the plasma display screen placed in the first position in the exposure table; after the first exposure, the exposure table adjustment to different from the first position to the second position; and placed in the second position in the plasma display panel exposure table second times of exposure. The invention can reduce the probability of the defects of the plasma display screen, improve the good product rate, reduce the defect of the repair and improve the quality of the display image of the plasma display screen.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及显示器领域，更具体地涉及一种等离子显示屏的曝 光方法。
技术介绍
等离子显示屏的线条图形的制作方法，主要有印刷法和光刻法。 印刷法制作的线条图形由于精度、对位、材料的限制不可能制作很 精细的线条图形。因此光刻法凭借着其特有的优点成为等离子显示 屏的制作过程中的主流技术。光刻法作为 一种重要的精细结构图形的制作方法在当前的高科 技领域得到了广泛的应用。特别是在等离子显示屏、液晶显示屏及 半导体行业等发挥着越来越大的作用。在等离子显示屏的制作中， 关键的显示电极、寻址电极等结构目前均采用光刻法制作。光刻法就是利用感光性浆料的光化学反应，将所需要的图形正 确地复制在^&加工的玻璃基板上，然后通过显影显示出曝光后的图形形状。等离子显示屏的制作过程中的光刻过程的具体过程如下 首先在清洗干净的玻璃基板上涂敷或印刷上一层感光性浆料，然后 把涂好的玻璃基板经过干燥炉，在适当的温度下干燥，干燥后利用 母版的掩模作用，在紫外线的照射下使母版上没有图形遮挡的地方 浆料硬化，附着到玻璃基板上，形成线条图形。最后在一定浓度的 Na2C03水溶液下显影，显示出图形的形...
【技术保护点】
一种等离子显示屏的曝光方法，其特征在于，包括以下步骤： 步骤ｃ，对放置在处于第一位置的曝光台上的等离子显示屏进行第一次曝光； 步骤ｄ，在所述第一次曝光完成以后，将所述曝光台调整到不同于所述第一位置的第二位置；以及 步骤ｅ， 对放置在处于所述第二位置的所述曝光台上的所述等离子显示屏进行第二次曝光。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：田玉民，
申请(专利权)人：四川虹欧显示器件有限公司，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]
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