一种适用于原位分析的微型CVD炉制造技术

本发明专利技术提供一种适用于原位分析的微型CVD炉,包括：法兰支架一、法兰支架二、加热炉组件、光学显微镜、调节组件以及电路控制组件，与现有技术相比，本发明专利技术具有如下的有益效果：通过在加热炉组件中安装加热件一、加热件二，加热件一、加热件二均为是以氮化硅陶瓷为基体，以钨丝为发热源，能快速升温到1100℃，具有瞬间高温、速度快、效率高、寿命长特点，保证加热件一、加热件二的正常工作和提升其使用寿命，降低维护和更换的频率，调节组件的设置，能够达到精确调节加热件一与加热件二之间的间距的目的，实现加热件一、加热件二之间的间隙可以进行调整，加热件一、加热件二之间距离通过调节组件的调整可以生成不同厚度的新材料，便于进行研究。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于材料制备，特别涉及一种适用于原位分析的微型cvd炉。

技术介绍

1、目前，化学气相沉积(cvd)作为传统制备薄膜技术的一种，指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料，近几十年来，随着科学技术的进步，化学气相沉积发展有常压化学气相沉积、等离子体辅助化学沉积、激光辅助化学沉积、金属有机化合物沉积等，cvd技术在保护膜层、微电子技术、太阳能利用、光纤通信、超导技术、制备新材料等许多方面都得到广泛的应用，随着其应用范围日益扩大，作用和经济效益的不断提高，化学气相沉积已经成为一种极其重要的材料现代成型技术。

2、在cvd过程中，电加热片需要承受高温环境并保持稳定性能，然而，高温环境可能会对电加热片的材料和结构产生损坏或退化，从而影响其正常工作和使用寿命，需要定期的维护和更换，这会增加设备后续维护的成本，因此，我们希望研发一种新型结构的微型cvd炉，以解决上述的技术问题

技术实现思路

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种适用于原位分析的微型CVD炉，包括：法兰支架一(100)、法兰支架二(300)、加热炉组件(400)、光学显微镜(200)、调节组件(500)以及电路控制组件(600)，其特征在于，所述法兰支架一(100)与加热炉组件(400)右端固定有，所述加热炉组件(400)左端与法兰支架二(300)上端固定连接；

2.如权利要求1所述的一种适用于原位分析的微型CVD炉，其特征在于：所述法兰支架一(100)的规格与法兰支架二(300)的规格相同，所述法兰支架二(300)包括伸缩杆(310)、固定套(320)以及固定头(330)，所述伸缩杆(310)上端焊接有固定套(320)，所述...

【技术特征摘要】

1.一种适用于原位分析的微型cvd炉，包括：法兰支架一(100)、法兰支架二(300)、加热炉组件(400)、光学显微镜(200)、调节组件(500)以及电路控制组件(600)，其特征在于，所述法兰支架一(100)与加热炉组件(400)右端固定有，所述加热炉组件(400)左端与法兰支架二(300)上端固定连接；

2.如权利要求1所述的一种适用于原位分析的微型cvd炉，其特征在于：所述法兰支架一(100)的规格与法兰支架二(300)的规格相同，所述法兰支架二(300)包括伸缩杆(310)、固定套(320)以及固定头(330)，所述伸缩杆(310)上端焊接有固定套(320)，所述固定套(320)通过固定头(330)与加热炉组件(400)的一端固定连接。

3.如权利要求1所述的一种适用于原位分析的微型cvd炉，其特征在于：所述加热炉组件(400)包括密封法兰(420)、加热件一(430)、加热件二(440)以及石英腔体(450)，所述石英腔体(450)左端、右端分别通过一个固定头(330)密封安装有一个密封法兰(420)，每一个所述密封法兰(420)上均焊接有四个陶封电极(410)，每一个所述密封法兰(420)上均安装有热电偶，每一个所述密封法兰(420)上均安装有一个φ6.35mm的卡套接头；

4.如权利要求3所述的一种适用于原位分析的微型cvd炉，其特征在于：所述石英腔体(450)右侧内部固定有加热件二(440)，所述加热件一(430)的规格与加热件二(440)的规格相同，所述加热件二(440)左端上侧放置有晶片(470)，所述加热件一(430)、加热件二(440)均为一种陶瓷电加热片，所述石英腔体(450)上侧设置有光学观察窗口(451)，所述晶片(470)位于光学观察窗口(451)正下方，所述光学观察窗口(451)位于光学显...

【专利技术属性】
技术研发人员：邾根祥，方辉，江晓平，
申请(专利权)人：合肥科晶材料技术有限公司，
类型：发明
国别省市：